| 中文摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-9页 |
| 第一章 绪论 | 第9-22页 |
| §1.1 研究背景 | 第9-10页 |
| §1.2 电容、电感耦合等离子体源 | 第10-14页 |
| §1.3 甚高频磁控溅射的研究现状 | 第14-21页 |
| §1.4 本文的研究内容 | 第21-22页 |
| 第二章 实验方法及等离子体性能表征 | 第22-35页 |
| §2.1 甚高频磁控溅射放电等离子体的产生 | 第22-24页 |
| §2.2 等离子体性能的 Langmuir 探针诊断 | 第24-30页 |
| §2.3 等离子体性能的拒斥场能量分析仪诊断 | 第30-35页 |
| 第三章 甚高频磁控溅射放电等离子体性能研究 | 第35-46页 |
| §3.1 60MHz 甚高频磁控溅射放电等离子体性能分析 | 第35-41页 |
| ·60MHz 甚高频磁控溅射放电等离子体的离子能量分布 | 第35-37页 |
| ·60MHz 甚高频磁控溅射放电等离子体的电子能量分布 | 第37-40页 |
| ·60MHz 甚高频磁控溅射放电等离子体的等离子体参数 | 第40-41页 |
| §3.2 甚高频磁控溅射放电与射频磁控溅射放电等离子体性能对比分析 | 第41-46页 |
| ·离子能量分布特性的对比分析 | 第41-44页 |
| ·电子能量分布特性的对比分析 | 第44-45页 |
| ·等离子体参数的对比分析 | 第45-46页 |
| 第四章 ICP 增强的甚高频磁控溅射放电等离子体性能研究 | 第46-52页 |
| §4.1 ICP 单独放电的等离子体特性研究 | 第46-48页 |
| §4.2 ICP 增强的甚高频磁控溅射放电等离子体特性 | 第48-52页 |
| 第五章 结论 | 第52-54页 |
| §5.1 本文研究的主要结果 | 第52-53页 |
| §5.2 存在的主要问题和进一步的研究方向 | 第53-54页 |
| 参考文献 | 第54-57页 |
| 攻读硕士学位期间公开发表的论文及科研成果 | 第57-58页 |
| 致谢 | 第58-59页 |
