| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-10页 |
| 第一章 绪论 | 第10-20页 |
| ·引言 | 第10页 |
| ·TiO_2的光催化原理 | 第10-11页 |
| ·光激发带间电子跃迁过程 | 第10页 |
| ·光生空穴和光生电子与表面吸附态离子相互作用过程 | 第10-11页 |
| ·提高TiO_2光催化活性的途径 | 第11-14页 |
| ·金属元素掺杂 | 第12-13页 |
| ·非金属元素掺杂 | 第13-14页 |
| ·N-TiO_2光催化原理 | 第14-15页 |
| ·N-TiO_2的制备方法 | 第15-17页 |
| ·溶胶-凝胶法 | 第15-16页 |
| ·水热合成法 | 第16页 |
| ·脉冲激光沉积法 | 第16-17页 |
| ·磁控溅射法 | 第17页 |
| ·本课题研究的意义及内容 | 第17-20页 |
| ·本课题的提出 | 第17-18页 |
| ·国内外N掺杂研究进展 | 第18-19页 |
| ·本课题的研究内容 | 第19-20页 |
| 第二章 磁控溅射系统及N-TiO_2薄膜的制备 | 第20-27页 |
| ·引言 | 第20页 |
| ·直流脉冲磁控溅射系统简介 | 第20-22页 |
| ·直流脉冲磁控溅射系统及技术特点 | 第20-21页 |
| ·直流脉冲电源工作原理及特点 | 第21-22页 |
| ·N-TiO_2薄膜的制备 | 第22-23页 |
| ·玻璃衬底的清洗 | 第22页 |
| ·N-TiO_2薄膜制备工艺流程 | 第22-23页 |
| ·N-TiO_2薄膜表征所使用的测试技术 | 第23-26页 |
| ·光学性能表征 | 第23-24页 |
| ·厚度表征 | 第24页 |
| ·晶体结构表征 | 第24-25页 |
| ·表面形貌表征 | 第25-26页 |
| ·成分表征 | 第26页 |
| 本章小结 | 第26-27页 |
| 第三章 O_2流量与N-TiO_2薄膜性能关系的研究 | 第27-35页 |
| ·实验 | 第27页 |
| ·N-TiO_2薄膜沉积速率的研究 | 第27-28页 |
| ·N-TiO_2薄膜成分分析 | 第28-30页 |
| ·N-TiO_2薄膜物相分析 | 第30-32页 |
| ·N-TiO_2薄膜禁带宽度的研究 | 第32-34页 |
| 本章小结 | 第34-35页 |
| 第四章 N_2流量与N-TiO_2薄膜性能关系的研究 | 第35-41页 |
| ·实验 | 第35页 |
| ·N-TiO_2薄膜光学性能的研究 | 第35-36页 |
| ·N-TiO_2薄膜沉积速率的研究 | 第36-37页 |
| ·N-TiO_2薄膜物相分析 | 第37-38页 |
| ·N-TiO_2薄膜表面形貌的研究 | 第38-40页 |
| 本章小结 | 第40-41页 |
| 第五章 离子源工作压强与N-TiO_2薄膜性能关系的研究 | 第41-49页 |
| ·实验 | 第41页 |
| ·N-TiO_2薄膜光学性能的研究 | 第41-43页 |
| ·N-TiO_2薄膜成分分析 | 第43-45页 |
| ·N-TiO_2薄膜表面形貌的研究 | 第45-47页 |
| ·N-TiO_2薄膜物相分析 | 第47-48页 |
| 本章小结 | 第48-49页 |
| 结论 | 第49-50页 |
| 参考文献 | 第50-54页 |
| 攻读硕士学位期间发表的学术论文 | 第54-55页 |
| 致谢 | 第55页 |
