碘修饰多钼酸的制备及其性能研究
| 摘要 | 第1-6页 |
| ABSTRACT | 第6-11页 |
| 第1章 绪论 | 第11-31页 |
| ·三氧化钼的研究进展 | 第11-16页 |
| ·三氧化钼结构描述 | 第12-13页 |
| ·三氧化钼的制备方法 | 第13-14页 |
| ·三氧化钼基材料的研究现状 | 第14-15页 |
| ·三氧化钼基材料的应用前景及其展望 | 第15-16页 |
| ·光致变色材料概述 | 第16-21页 |
| ·光致变色定义 | 第16页 |
| ·光致变色的研究历史 | 第16-17页 |
| ·有机光致变色材料及其变色机理 | 第17-18页 |
| ·无机光致变色材料及其变色机理 | 第18-19页 |
| ·三氧化钼基光电致变色材料的机理及其研究现状 | 第19-20页 |
| ·光致变色材料研究展望 | 第20-21页 |
| ·气体敏感材料概述 | 第21-26页 |
| ·金属氧化物类气敏材料 | 第21-23页 |
| ·复合气敏材料 | 第23-24页 |
| ·有机高分子气敏材料 | 第24-25页 |
| ·三氧化钼基气敏材料的研究现状 | 第25-26页 |
| ·气敏材料的展望 | 第26页 |
| ·本课题研究的目的极其意义 | 第26-27页 |
| 参考文献 | 第27-31页 |
| 第2章 六方晶型多钼酸的制备 | 第31-41页 |
| ·试验部分 | 第32页 |
| ·试验方案 | 第32页 |
| ·化学试剂与仪器装置 | 第32页 |
| ·结果与讨论 | 第32-39页 |
| ·多钼酸X-ray 分析 | 第32-34页 |
| ·多钼酸的SEM 分析 | 第34-35页 |
| ·硝酸酸度对制备多钼酸影响 | 第35-36页 |
| ·钼酸铵浓度对晶粒生成的影响 | 第36页 |
| ·硝酸滴定速度对晶粒大小的影响 | 第36-37页 |
| ·脱水温度对三氧化钼晶型的影响 | 第37-38页 |
| ·RhB的作用 | 第38-39页 |
| ·结论 | 第39页 |
| 参考文献 | 第39-41页 |
| 第3章 碘修饰多钼酸及其光电致变色的研究 | 第41-65页 |
| ·碘修饰多钼酸的研究 | 第42-54页 |
| ·试验 | 第43-44页 |
| ·结果与讨论 | 第44-52页 |
| ·结论 | 第52-54页 |
| ·碘修饰多钼酸光学特性的研究 | 第54-63页 |
| ·试验部分 | 第54-57页 |
| ·结果与讨论 | 第57-63页 |
| ·结论 | 第63页 |
| 参考文献 | 第63-65页 |
| 第4章 碘修饰多钼酸气敏性的研究 | 第65-76页 |
| ·试验部分 | 第65-68页 |
| ·试验原料的制备及表征 | 第65-66页 |
| ·碘修饰多钼酸气敏元件的制作 | 第66页 |
| ·气体浓度控制方法 | 第66-67页 |
| ·气敏元件的主要参数 | 第67-68页 |
| ·结果与讨论 | 第68-74页 |
| ·碘修饰多钼酸结构与形貌分析 | 第68-69页 |
| ·碘修饰多钼酸气敏元件灵敏度与温度的关系 | 第69-70页 |
| ·碘修饰多钼酸气敏元件灵敏度与浓度的关系 | 第70-71页 |
| ·碘修饰多钼酸气敏元件的选择性 | 第71-72页 |
| ·碘修饰多钼酸气敏元件的响应时间和恢复时间 | 第72-73页 |
| ·碘修饰多钼酸气敏元件的机理解释 | 第73-74页 |
| ·结论 | 第74页 |
| 参考文献 | 第74-76页 |
| 第5章 结论与展望 | 第76-78页 |
| ·结论 | 第76-77页 |
| ·展望 | 第77-78页 |
| 发表论文 | 第78-79页 |
| 致谢 | 第79页 |
