| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-11页 |
| 1 引言 | 第11-19页 |
| ·重金属离子的危害 | 第11-12页 |
| ·检测方法的研究进展 | 第12-14页 |
| ·电化学在检测重金属方面的研究进展 | 第14-17页 |
| ·电化学原理 | 第14页 |
| ·常用的电分析方法—极谱分析法和伏安法 | 第14-15页 |
| ·溶出伏安法原理 | 第15-16页 |
| ·溶出伏安法分类 | 第16页 |
| ·溶出伏安法在重金属元素测定方面的研究进展 | 第16-17页 |
| ·选题意义及研究思路 | 第17-19页 |
| ·选题意义 | 第17-18页 |
| ·研究思路 | 第18-19页 |
| 2 铋膜电极差分脉冲溶出伏安法同时测定铅、镉和锌 | 第19-29页 |
| ·引言 | 第19页 |
| ·实验部分 | 第19-20页 |
| ·实验材料 | 第19-20页 |
| ·铋膜电极的制备 | 第20页 |
| ·实验方法 | 第20页 |
| ·结果与讨论 | 第20-28页 |
| ·铋膜修饰电极的表征 | 第20-21页 |
| ·各离子在铋膜电极上的溶出伏安信号响应 | 第21-22页 |
| ·各离子在铋膜电极上的循环伏安曲线 | 第22-24页 |
| ·单个离子测定 | 第24页 |
| ·两种离子共存时测定 | 第24-25页 |
| ·三种离子共存时测定 | 第25-26页 |
| ·Pb~(2+)、Cd~(2+)和 Zn~(2+)的标准曲线比较 | 第26-28页 |
| ·本章小结 | 第28-29页 |
| 3 铋膜电极差分脉冲溶出伏安法同时测定锌和铜 | 第29-41页 |
| ·引言 | 第29页 |
| ·实验部分 | 第29-30页 |
| ·实验材料 | 第29-30页 |
| ·铋膜电极的制备 | 第30页 |
| ·实验方法 | 第30页 |
| ·结果与讨论 | 第30-40页 |
| ·铋膜修饰电极的表征 | 第30-31页 |
| ·电解质的选择 | 第31-32页 |
| ·Zn~(2+)和 Cu~(2+)在铋膜电极上的循环伏安曲线 | 第32-33页 |
| ·Zn~(2+)和 Zn~(2+)的溶出伏安曲线及标准曲线比较 | 第33-34页 |
| ·搅拌对富集过程的影响 | 第34-36页 |
| ·电位范围对 Cu2+测定的影响 | 第36-37页 |
| ·铋膜电极的溶出伏安曲线 | 第37-38页 |
| ·Cu2+和-0.1V 处溶出峰的关系 | 第38-40页 |
| ·本章小结 | 第40-41页 |
| 4 铋膜电极催化吸附溶出伏安法测定痕量铬(Ⅵ) | 第41-52页 |
| ·引言 | 第41页 |
| ·实验部分 | 第41-42页 |
| ·化学试剂与仪器 | 第41-42页 |
| ·铋膜电极的制备 | 第42页 |
| ·实验方法 | 第42页 |
| ·结果与讨论 | 第42-51页 |
| ·Cr(Ⅵ)催化吸附溶出伏安曲线 | 第42-43页 |
| ·铬(Ⅵ)测定的原理 | 第43-44页 |
| ·催化剂的选择 | 第44-46页 |
| ·富集电位的影响 | 第46页 |
| ·富集时间的影响 | 第46-47页 |
| ·KNO_3浓度的影响 | 第47-48页 |
| ·DTPA 浓度的影响 | 第48页 |
| ·电解质 pH 值的影响 | 第48-49页 |
| ·Cr(Ⅵ)的溶出伏安曲线及标准曲线方程 | 第49-51页 |
| ·本章小结 | 第51-52页 |
| 5 新型钴膜电极的制备及痕量砷(Ⅲ)的测定 | 第52-64页 |
| ·引言 | 第52页 |
| ·实验部分 | 第52-54页 |
| ·试剂与仪器 | 第52-53页 |
| ·钴膜电极的制备 | 第53-54页 |
| ·实验方法 | 第54页 |
| ·结果与讨论 | 第54-63页 |
| ·氧化钴膜电极的表征 | 第54-55页 |
| ·PdCl_2在制备氧化钴膜电极时的催化作用 | 第55-56页 |
| ·氧化钴膜修饰电极对 As(Ⅲ)的响应 | 第56-58页 |
| ·PdCl_2浓度的影响 | 第58-59页 |
| ·沉积时间对氧化钴电极的影响 | 第59-60页 |
| ·溶液 pH 值的影响 | 第60-61页 |
| ·扫描速率的影响 | 第61-62页 |
| ·不同浓度 As(III)的测定 | 第62-63页 |
| ·本章小结 | 第63-64页 |
| 结论 | 第64-65页 |
| 参考文献 | 第65-77页 |
| 致谢 | 第77页 |
