| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-10页 |
| 引言 | 第10-11页 |
| 1 文献综述 | 第11-27页 |
| ·CO_2的介绍 | 第11-13页 |
| ·CO_2的物理化学性质 | 第11页 |
| ·CO_2资源的开发应用 | 第11-13页 |
| ·CO_2资源分布及分离净化方法 | 第13-18页 |
| ·CO_2资源分布 | 第13-16页 |
| ·CO_2的分离净化方法 | 第16-18页 |
| ·有机硫的性质及危害 | 第18-19页 |
| ·甲硫醇的性质及危害 | 第18-19页 |
| ·甲硫醚的性质及危害 | 第19页 |
| ·硫化物脱除方法 | 第19-25页 |
| ·加氢脱硫技术 | 第19-20页 |
| ·非加氢脱硫技术 | 第20-25页 |
| ·课题选择 | 第25-27页 |
| ·研究思路 | 第25-26页 |
| ·研究内容 | 第26-27页 |
| 2 实验部分 | 第27-31页 |
| ·化学试剂、特种气体以及设备 | 第27-28页 |
| ·化学试剂及特种气体 | 第27页 |
| ·实验设备 | 第27-28页 |
| ·实验原理 | 第28页 |
| ·实验装置及分析方法 | 第28-30页 |
| ·实验装置图 | 第28-29页 |
| ·分析方法 | 第29-30页 |
| ·表征方法 | 第30-31页 |
| ·FT-IR | 第30页 |
| ·XRD | 第30页 |
| ·N_2物理吸附 | 第30页 |
| ·MS质谱 | 第30-31页 |
| 3 TS-1/H_2O_2对CH_3SH的催化氧化脱除研究 | 第31-42页 |
| ·TS-1/H_2O_2对不同浓度CH_3SH的脱除效果 | 第31-32页 |
| ·气体流速对TS-1/H_2O_2脱除CH_3SH的影响 | 第32-33页 |
| ·反应管高径比对CH_3SH脱除效果的影响 | 第33页 |
| ·不同浓度的H_2O_2溶液对CH_3SH的氧化脱除效果 | 第33-35页 |
| ·CH3SH氧化后产物的质谱分析 | 第35-36页 |
| ·反应温度对TS-1/H_2O_2体系氧化脱除CH_3SH的影响 | 第36-37页 |
| ·催化剂TS-1加入量对TS-1/H_2O_2体系氧化脱除CH_3SH的影响 | 第37-38页 |
| ·反应前后TS-1分子筛的FT-TR表征分析 | 第38-39页 |
| ·TS-1多次再生后对CH_3SH氧化脱除性能及XRD和N_2物理吸附表征分析 | 第39-41页 |
| ·本章小结 | 第41-42页 |
| 4 TS-1/H_2O_2对CH_3SCH_3的催化氧化脱除研究 | 第42-50页 |
| ·TS-1/H_2O_2对不同浓度CH_3SCH_3的脱除效果 | 第42页 |
| ·不同气体流量对CH_3SCH_3的脱除效果 | 第42页 |
| ·反应管高径比对CH_3SCH_3脱除效果的影响 | 第42-44页 |
| ·H_2O_2溶液浓度对CH_3SCH_3的氧化脱除效果 | 第44-45页 |
| ·CH_3SCH_3氧化后产物的质谱分析 | 第45-46页 |
| ·反应温度对脱除CH_3SCH_3的影响 | 第46-47页 |
| ·催化剂TS-1加入量对脱除CH_3SCH_3的影响 | 第47页 |
| ·TS-1多次再生对CH_3SCH_3氧化脱除性能 | 第47-49页 |
| ·本章小结 | 第49-50页 |
| 5 含CH_3SO_3H和CH_3SO_2CH_3的模拟废水溶液的处理 | 第50-56页 |
| ·CH_3SH氧化产物的处理方法 | 第50-54页 |
| ·CH_3SH主要氧化产物CH_3SO_3H的性质及危害 | 第50页 |
| ·Fenton法处理含CH_3SO_3H废水的研究 | 第50-54页 |
| ·CH_3SCH_3氧化产物的处理方法 | 第54-55页 |
| ·CH_3SCH_3主要氧化产物CH_3SO_2CH_3的性质 | 第54-55页 |
| ·Fenton法处理含CH_3SO_2CH_3废水的研究 | 第55页 |
| ·含CH_3SO_3H和CH_3SO_2CH_3废水的优化处理方法分析 | 第55页 |
| ·本章小结 | 第55-56页 |
| 结论 | 第56-57页 |
| 参考文献 | 第57-63页 |
| 攻读硕士学位期间发表学术论文情况 | 第63-64页 |
| 致谢 | 第64-65页 |
