含有缺陷层一维光子晶体结构的制备与光学性能研究
| 摘要 | 第1-7页 |
| ABSTRACT | 第7-11页 |
| 第一章 .绪论 | 第11-23页 |
| ·二氧化钒 | 第11-18页 |
| ·一维光子晶体 | 第18-21页 |
| ·二氧化钒在光子晶体领域中的应用 | 第21-23页 |
| 第二章 .本文研究的主要出发点和技术路线 | 第23-25页 |
| ·二氧化钒薄膜的制备 | 第23页 |
| ·一维光子晶体结构设计 | 第23-24页 |
| ·一维缺陷层光子晶体结构制备 | 第24-25页 |
| 第三章 .二氧化钒薄膜的制备及性能测试 | 第25-46页 |
| ·主要制备方法 | 第25-28页 |
| ·溅射氧化耦合法及其特点 | 第28-29页 |
| ·薄膜制备实验平台 | 第29-32页 |
| ·表征分析 | 第32-35页 |
| ·实验步骤 | 第35-38页 |
| ·样品表征 | 第38-43页 |
| ·光学参数拟合 | 第43-44页 |
| ·本章小结 | 第44-46页 |
| 第四章 .一维光子晶体结构设计 | 第46-61页 |
| ·光子晶体的理论研究方法 | 第46-47页 |
| ·传输矩阵法 | 第47-52页 |
| ·光子晶体结构理论模拟 | 第52-55页 |
| ·获得材料光学数据预实验 | 第55-57页 |
| ·材料光学参数拟合 | 第57页 |
| ·设计膜系拟合 | 第57-59页 |
| ·本章小结 | 第59-61页 |
| 第五章 .一维缺陷光子晶体结构制备 | 第61-69页 |
| ·实验步骤 | 第61-62页 |
| ·工艺参数设定 | 第62-63页 |
| ·膜层外观形态分析 | 第63页 |
| ·光学性能分析 | 第63-64页 |
| ·场发射扫描电镜结果分析 | 第64-66页 |
| ·X射线衍射分析 | 第66-68页 |
| ·误差分析 | 第68页 |
| ·本章小结 | 第68-69页 |
| 第六章. 结论与展望 | 第69-71页 |
| ·结论 | 第69-70页 |
| ·展望 | 第70-71页 |
| 参考文献 | 第71-79页 |
| 攻读学位期间的研究成果 | 第79-80页 |
| 致谢 | 第80页 |
