完全氢吸附的氮化硼薄膜的物性研究
| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-10页 |
| 第一章 绪论 | 第10-13页 |
| ·纳米材料 | 第10页 |
| ·类石墨烯材料 | 第10-11页 |
| ·研究现状和本论文工作 | 第11-13页 |
| 第二章 密度泛函理论及其计算结果 | 第13-31页 |
| ·密度泛函理论 | 第13-20页 |
| ·波恩-奥本海默(BO)近似 | 第13-14页 |
| ·单电子近似 | 第14-15页 |
| ·平均场近似和 Hatree-Fock 自洽场 | 第15-17页 |
| ·密度泛函理论(DFT) | 第17-20页 |
| ·参数设置及计算结果 | 第20-31页 |
| ·计算参数设置 | 第20页 |
| ·单层全附氢氮化硼 | 第20-23页 |
| ·多层全附氢氮化硼 | 第23-25页 |
| ·电场对多层氮化硼的调制作用 | 第25-30页 |
| ·本章小结 | 第30-31页 |
| 第三章 经验参数法及其计算结果 | 第31-48页 |
| ·半经验电子结构计算方法 | 第31-43页 |
| ·紧束缚模型的建立 | 第31-33页 |
| ·BNH_2的哈密顿矩阵 | 第33-36页 |
| ·多层情况的哈密顿矩阵 | 第36-40页 |
| ·外加电场作用 | 第40页 |
| ·参数拟合方法 | 第40-43页 |
| ·计算结果 | 第43-48页 |
| ·参数选取 | 第43-44页 |
| ·BNH_2计算结果 | 第44-47页 |
| ·本章小结 | 第47-48页 |
| 第四章 总结与展望 | 第48-49页 |
| ·总结 | 第48页 |
| ·展望 | 第48-49页 |
| 参考文献 | 第49-52页 |
| 致谢 | 第52-53页 |
| 在学期间的研究成果及发表的学术论文 | 第53页 |
