Ni-Co、Ni-Co-Mn电极的制备及其析氧性能研究
摘要 | 第1-6页 |
Abstract | 第6-11页 |
第1章 绪论 | 第11-23页 |
·碱性电解水制备氢气的发展与现状 | 第11-12页 |
·碱性电解水电极材料 | 第12-16页 |
·碱性电解水阴极材料的研究 | 第12页 |
·碱性电解水阳极材料的研究 | 第12-16页 |
·NiCO_2O_4的制备方法 | 第16-18页 |
·喷涂热解法 | 第16-17页 |
·先驱物法 | 第17页 |
·阳极电沉积法 | 第17-18页 |
·电化学析氧理论 | 第18-21页 |
·金属电极的析氧理论 | 第18页 |
·金属氧化物电极的析氧理论 | 第18-20页 |
·钙钛矿型氧化物 ABO_2的析氧理论 | 第20-21页 |
·课题研究意义与内容 | 第21-23页 |
第2章 实验方法 | 第23-33页 |
·实验仪器及药品 | 第23-24页 |
·主要仪器 | 第23页 |
·主要药品试剂 | 第23-24页 |
·合金电极的制备 | 第24-28页 |
·实验装置 | 第24页 |
·电极的前处理 | 第24-25页 |
·制备合金电极的镀液组成及工艺参数 | 第25-28页 |
·电极的微观形貌及组成成分分析 | 第28页 |
·XRD 测试 | 第28页 |
·多波长 K 系数法同时测定合金电极的组成 | 第28-30页 |
·方法原理 | 第28-29页 |
·测定方法 | 第29页 |
·测定步骤 | 第29-30页 |
·电化学性能研究 | 第30-33页 |
·电化学测试条件 | 第30-31页 |
·电极稳态极化曲线的测试 | 第31页 |
·交流阻抗测试 | 第31-33页 |
第3章 镍钴合金镀层及其氧化 | 第33-43页 |
·正交实验 | 第33-34页 |
·泡沫合金的氧化处理 | 第34-39页 |
·氧化温度的影响 | 第34页 |
·氧化时间的影响 | 第34-37页 |
·不同电极的阻抗图 | 第37-39页 |
·不同电极的 XRD 测试 | 第39页 |
·工艺条件的变化对镀层含量的影响 | 第39-43页 |
·硫酸镍浓度变化对镀层含量的影响 | 第40页 |
·硫酸钴浓度变化对镀层含量的影响 | 第40页 |
·柠檬酸钠浓度变化对镀层含量的影响 | 第40-41页 |
·电流密度变化对镀层含量的影响 | 第41页 |
·温度变化对镀层含量的影响 | 第41页 |
·电沉积时间对镀层含量的影响 | 第41-42页 |
·镍钴合金电极的组成分析 | 第42-43页 |
第4章 镍钴锰合金镀 | 第43-54页 |
·正交实验 | 第43-44页 |
·镀液组成和电沉积参数对电极析氧性能的影响 | 第44-48页 |
·电流密度的影响 | 第44页 |
·柠檬酸钠浓度的影响 | 第44-45页 |
·硫酸镍浓度的影响 | 第45页 |
·硫酸锰浓度的影响 | 第45-46页 |
·硫酸钴浓度的影响 | 第46页 |
·电沉积时间的影响 | 第46-47页 |
·电沉积温度的影响 | 第47-48页 |
·镀液组成及工艺参数对镀层组成的影响 | 第48-51页 |
·硫酸锰浓度的影响 | 第48页 |
·柠檬酸钠浓度的影响 | 第48-49页 |
·电流密度的影响 | 第49-50页 |
·电沉积时间的影响 | 第50-51页 |
·电沉积温度的影响 | 第51页 |
·镀层的微观形貌及组成分析 | 第51-52页 |
·各种电极的催化性能比较 | 第52-54页 |
第5章 镍钴及镍钴锰合金的含量测定 | 第54-64页 |
·各种测试方法的比较 | 第54-56页 |
·滴定法 | 第54页 |
·电分析法 | 第54页 |
·原子光谱法 | 第54-55页 |
·高效液相色谱法 | 第55页 |
·分光光度法 | 第55-56页 |
·测定仪器 | 第56页 |
·测定用试剂 | 第56页 |
·镍钴合金含量的测定 | 第56-58页 |
·pH 对测试体系的影响 | 第57页 |
·Triton X-100 对测试体系的影响 | 第57-58页 |
·PAN 对测试体系的影响 | 第58页 |
·时间对测试体系的影响 | 第58页 |
·镍钴体系工作曲线的绘制 | 第58-60页 |
·镍工作曲线的绘制 | 第58-59页 |
·钴标准曲线的绘制 | 第59页 |
·镍钴回收率测定 | 第59-60页 |
·镍钴锰的测定 | 第60-64页 |
·时间对测试体系的影响 | 第61页 |
·锰的工作曲线绘制 | 第61-62页 |
·镍的工作曲线绘制 | 第62页 |
·钴的工作曲线绘制 | 第62-63页 |
·镍钴锰的回收率测定 | 第63-64页 |
结论 | 第64-66页 |
参考文献 | 第66-73页 |
致谢 | 第73页 |