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SnO2材料的第一性原理研究及其薄膜制备

摘要第1-4页
Abstract第4-9页
第1章 绪论第9-25页
   ·课题背景第9页
   ·纳米材料简介第9-11页
     ·纳米材料的分类第10页
     ·纳米材料的特殊性能第10页
     ·纳米材料的研究内容第10-11页
   ·纳米薄膜介绍第11-17页
     ·纳米薄膜的分类第11-12页
     ·纳米薄膜的制备方法第12-15页
     ·磁控溅射法的基本原理及其特点第15-17页
   ·SnO_2 气敏材料介绍第17-21页
     ·SnO_2 气敏材料的特点第18-19页
     ·SnO_2 材料的气敏机理第19-20页
     ·SnO_2 气敏传感器的应用及展望第20-21页
   ·材料设计概述第21-23页
     ·材料设计发展概况第21-22页
     ·材料设计中的计算机模拟第22-23页
   ·本文的选题意义及研究内容第23-25页
第2章 SnO_2材料的第一性原理研究第25-52页
   ·相关理论介绍第25-29页
     ·密度泛函理论第25-26页
     ·局域密度近似(LDA)第26-27页
     ·广义梯度近似(GGA)第27-28页
     ·赝势方法第28-29页
   ·SnO_2 体相结构的模拟计算第29-32页
   ·SnO_2 中含不同浓度氧空位的第一性原理研究第32-35页
     ·计算方法及模型第32-33页
     ·计算结果与分析第33-35页
   ·SnO_2 掺杂贵金属Pd 的第一性原理研究第35-39页
     ·计算方法及模型第36页
     ·计算结果与分析第36-39页
   ·CO 吸附在SnO_2(110)面的第一性原理研究第39-50页
     ·SnO_2(110)面模型的建立第40-43页
     ·吸附模型的建立第43-46页
     ·计算结果与分析第46-50页
   ·本章小节第50-52页
第3章 SnO_2薄膜的制备及结构分析第52-71页
   ·实验材料第52页
   ·主要实验设备第52-54页
   ·主要分析测试仪器第54-56页
     ·X 射线衍射分析第54-55页
     ·电子显微分析第55-56页
   ·其他实验设备第56页
   ·实验过程第56-57页
     ·基片清洗第56页
     ·薄膜制备第56-57页
     ·薄膜的退火处理第57页
   ·薄膜成分的分析第57-61页
     ·EDS 测定薄膜成分第57-58页
     ·不同氧氩比下得沉积速率实验及成分分析第58-61页
   ·薄膜结构的分析第61-68页
     ·溅射气压的影响第61-63页
     ·不同衬底温度下的薄膜结构分析第63-64页
     ·不同退火温度下的薄膜结构分析第64-66页
     ·不同退火时间下的薄膜结构分析第66-68页
   ·SnO_2 薄膜的TEM 分析第68-69页
   ·本章小结第69-71页
第4章 微结构SnO_2气敏传感器的结构设计第71-81页
   ·引言第71-73页
     ·气敏传感器的概念第71页
     ·气敏传感器的分类第71-72页
     ·半导体气敏传感器的工作原理第72-73页
     ·SnO_2 气敏传感器介绍第73页
   ·微结构SnO_2 气敏传感器的设计思路第73-79页
     ·微结构气敏传感器的热设计第74-75页
     ·微结构SnO_2 气敏传感器的结构设计第75-76页
     ·微结构气敏传感器的工艺设计过程第76-79页
   ·结构设计中的相关工艺第79-80页
     ·制备绝缘层第79页
     ·光刻过程第79-80页
     ·各向异性腐蚀第80页
   ·本章小结第80-81页
结论第81-82页
参考文献第82-87页
攻读硕士学位期间承担的科研任务与主要成果第87-88页
致谢第88-89页
作者简介第89页

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