| 摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-8页 |
| 引言 | 第8-9页 |
| 第一章 文献综述 | 第9-21页 |
| ·交换偏置(exchange bias)的研究进展 | 第9-12页 |
| ·交换偏置的机制 | 第9-12页 |
| ·影响交换偏置的因素 | 第12-15页 |
| ·铁磁层的厚度 | 第12页 |
| ·反铁磁层厚度 | 第12-13页 |
| ·反铁磁层结构取向对交换偏置场的影响 | 第13页 |
| ·界面的粗糙度 | 第13-14页 |
| ·晶粒尺寸 | 第14页 |
| ·交换偏置的温度效应 | 第14-15页 |
| ·交换偏置中常用的反铁磁材料 | 第15-18页 |
| ·面心立方(fcc)的无序金属合金 | 第16页 |
| ·体心四方(bct)的无序金属合金 | 第16-17页 |
| ·面心四方(fct)有序金属合金 | 第17页 |
| ·反铁磁氧化物 | 第17-18页 |
| 参考文献: | 第18-21页 |
| 第二章 样品的制备和分析测试原理 | 第21-31页 |
| ·薄膜样品的制备 | 第21-25页 |
| ·磁控溅射原理 | 第21-23页 |
| ·薄膜样品的制备 | 第23页 |
| ·基片的洗涤方法 | 第23-25页 |
| ·本实验所采用的实验设备 | 第25页 |
| ·薄膜的分析测试原理 | 第25-30页 |
| ·磁性能测量 | 第25-27页 |
| ·薄膜厚度的测量 | 第27-30页 |
| 参考文献 | 第30-31页 |
| 第三章 界面插入Cr层对PtMn/NiFe交换偏置的影响 | 第31-45页 |
| ·引言 | 第31-33页 |
| ·实验方法 | 第33页 |
| ·实验结果和讨论 | 第33-42页 |
| ·退火温度对PtMn/NiFe交换偏置的影响 | 第33-36页 |
| ·铁磁/反铁磁双层膜中交换偏置场与反铁磁层厚度的关系 | 第36-37页 |
| ·对在反铁磁层PtMn的厚度为临界厚度时,界面Cr插入层厚度对交换偏置的影响 | 第37-38页 |
| ·XRD的分析 | 第38-39页 |
| ·交换偏置场和临界厚度的关系 | 第39-41页 |
| ·插入层位置对交换偏置场的影响 | 第41-42页 |
| ·结论 | 第42-43页 |
| 参考文献: | 第43-45页 |
| 致谢 | 第45页 |
