| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-15页 |
| 第1章 绪论 | 第15-29页 |
| ·引言 | 第15页 |
| ·光子晶体简介和发展现状 | 第15-19页 |
| ·光子晶体制作方法 | 第19-24页 |
| ·ICP 干法刻蚀技术 | 第20-22页 |
| ·电化学刻蚀技术 | 第22-23页 |
| ·其它制作方法 | 第23-24页 |
| ·光子晶体应用 | 第24-27页 |
| ·光子晶体滤波器 | 第24-25页 |
| ·光子晶体光纤 | 第25-26页 |
| ·光子晶体发光二极管 | 第26-27页 |
| ·光子晶体偏振片 | 第27页 |
| ·课题研究的主要内容 | 第27-29页 |
| 第2章 光子晶体基本理论与分析方法 | 第29-60页 |
| ·光子晶体传输电磁波理论 | 第29-39页 |
| ·电磁波在介质中的传播 | 第29-31页 |
| ·电磁波在介质界面上的反射与折射 | 第31-35页 |
| ·周期性介质中电磁波的传播 | 第35-36页 |
| ·光子晶体与光子带隙 | 第36-37页 |
| ·光子晶体的本征方程 | 第37-39页 |
| ·光子晶体分析方法 | 第39-54页 |
| ·时域有限差分算法 | 第40-47页 |
| ·传输矩阵法 | 第47-54页 |
| ·平面波展开法 | 第54页 |
| ·N 阶法 | 第54页 |
| ·光子晶体固体能带 | 第54-59页 |
| ·晶体结构 | 第55页 |
| ·固体中能带的形成 | 第55-58页 |
| ·固体能带的分析方法 | 第58-59页 |
| ·本章小结 | 第59-60页 |
| 第3章 一维光子晶体光学传输特性的研究 | 第60-76页 |
| ·一维光子晶体模型 | 第60-64页 |
| ·一维光子晶体的基本周期结构 | 第60页 |
| ·一维传输矩阵模型 | 第60-63页 |
| ·一维光子晶体的传输矩阵 | 第63-64页 |
| ·经典一维光子晶体光学传输特性 | 第64-68页 |
| ·一维光子晶体结构的透射谱特性 | 第65-66页 |
| ·偏振状态及入射角对透射谱的影响 | 第66-68页 |
| ·一维缺陷光子晶体光学传输特性 | 第68-72页 |
| ·缺陷层厚度对透射谱的影响 | 第68-70页 |
| ·周期数对一维缺陷光子晶体透射谱的影响 | 第70-71页 |
| ·介质光学厚度对透射谱的影响 | 第71-72页 |
| ·含负折射率介质一维光子晶体光学特性 | 第72-75页 |
| ·含负折射率介质周期结构一维光子晶体特性 | 第72-73页 |
| ·负折射率啁啾结构一维光子晶体特性分析 | 第73-74页 |
| ·负折射率变迹结构一维光子晶体光学传输特性 | 第74-75页 |
| ·本章小结 | 第75-76页 |
| 第4章 一维缺陷光子晶体制作及其光学特性测量 | 第76-94页 |
| ·一维缺陷光子晶体设计 | 第76-83页 |
| ·一维光子晶体谐振腔结构设计 | 第76-77页 |
| ·一维缺陷光子晶体制作仿真实验 | 第77-83页 |
| ·一维缺陷光子晶体的制作 | 第83-90页 |
| ·Si-SiO_2 芯片上制作弯曲波导 | 第83-85页 |
| ·样品的清洗及抗腐蚀性处理 | 第85页 |
| ·EBL 制作光子晶体 | 第85页 |
| ·显影 | 第85-86页 |
| ·刻蚀 | 第86-87页 |
| ·制作结果及分析 | 第87-90页 |
| ·光子晶体光学特性测量与分析 | 第90-93页 |
| ·本章小结 | 第93-94页 |
| 第5章 一维缺陷光子晶体温度特性分析实验 | 第94-114页 |
| ·光子晶体谐振腔理论模型 | 第94-95页 |
| ·一维缺陷光子晶体温度特性仿真实验 | 第95-97页 |
| ·温度特性实验系统设计 | 第97-99页 |
| ·SI-SI-SIO_2 结构光子晶体温度特性分析实验 | 第99-104页 |
| ·SI-SI-AIR 结构光子晶体温度特性实验 | 第104-107页 |
| ·光子晶体温度特性解调实验 | 第107-109页 |
| ·光子晶体温度信号分析实验 | 第109-113页 |
| ·本章小结 | 第113-114页 |
| 结论 | 第114-116页 |
| 参考文献 | 第116-123页 |
| 攻读博士学位期间承担的科研任务与主要成果 | 第123-124页 |
| 致谢 | 第124-125页 |
| 作者简介 | 第125页 |