脉冲激光沉积钛膜的工艺与机理的研究
| 中文摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-9页 |
| 第1章 绪论 | 第9-24页 |
| ·金刚石与金刚石薄膜的性质及应用 | 第9-10页 |
| ·钢基金刚石薄膜的过渡层的研究进展 | 第10-14页 |
| ·沉积法制备的过渡层 | 第11-13页 |
| ·表面改性法制备过渡层 | 第13-14页 |
| ·钛膜的制备方法研究 | 第14-23页 |
| ·钛膜的结构及用途 | 第14-16页 |
| ·钛膜的脉冲激光沉积(PLD)方法 | 第16-21页 |
| ·钛膜的其它制备方法简介 | 第21-22页 |
| ·钛膜制备方法小结 | 第22-23页 |
| ·本文的研究内容及意义 | 第23-24页 |
| 第2章 薄膜的生长过程及机理 | 第24-29页 |
| ·气相分子在基体表面的凝结过程 | 第24-25页 |
| ·吸附过程 | 第24页 |
| ·表面扩散过程 | 第24-25页 |
| ·核的形成过程及相关理论 | 第25-27页 |
| ·核的生长与连续薄膜的形成 | 第27-29页 |
| ·结合过程 | 第27-28页 |
| ·沟道阶段 | 第28页 |
| ·连续薄膜 | 第28-29页 |
| 第3章 实验方法及相应的测试手段 | 第29-36页 |
| ·实验设备简介 | 第29-30页 |
| ·PLD工艺路线和工艺参数 | 第30-33页 |
| ·薄膜沉积的工艺流程 | 第30-31页 |
| ·影响PLD沉积的工艺参数 | 第31-33页 |
| ·实验采用的测试手段 | 第33-36页 |
| ·X射线衍射(XRD) | 第33-34页 |
| ·扫描电子显微镜(SEM) | 第34-35页 |
| ·X射线光电子能谱(XPS) | 第35页 |
| ·椭偏仪测量膜厚 | 第35-36页 |
| 第4章 实验结果分析 | 第36-49页 |
| ·XRD分析 | 第36-39页 |
| ·SEM测试结果分析 | 第39-41页 |
| ·椭偏仪测试 | 第41-45页 |
| ·膜厚测试 | 第41-44页 |
| ·膜厚的均匀性 | 第44-45页 |
| ·XPS分析 | 第45-47页 |
| ·定性分析 | 第45-46页 |
| ·半定量分析 | 第46-47页 |
| ·本章小节 | 第47-49页 |
| 第5章 结论 | 第49-50页 |
| 参考文献 | 第50-54页 |
| 致谢 | 第54-55页 |
| 附录 攻读硕士学位期间拟发表的论文 | 第55页 |
