硬脆光学晶体材料的生长及加工机理研究
摘要 | 第1-5页 |
ABSTRACT | 第5-6页 |
目录 | 第6-7页 |
第一章 绪论 | 第7-17页 |
§1.1 超精密加工技术的现状 | 第7-8页 |
§1.2 影响超精密加工精度的因素 | 第8-12页 |
§1.3 精密磨削和精密研磨技术的发展现状 | 第12-15页 |
§1.4 超精密加工技术的发展趋势 | 第15-16页 |
§1.5 本文的主要研究内容 | 第16-17页 |
第二章 硬脆光学晶体材料的生长制备 | 第17-31页 |
§2.1 提拉法生长晶体 | 第17-28页 |
§2.2 提拉法生长Nd~(3+):YAG晶体 | 第28-29页 |
§2.3 YAG晶体的等径生长 | 第29-31页 |
第三章 硬脆光学晶体材料超精密切削理论研究 | 第31-48页 |
§3.1 引言 | 第31页 |
§3.2 硬脆材料超光滑表面磨削的研究现状 | 第31-33页 |
§3.3 硬脆材料超光滑表面磨削的关键技术 | 第33-35页 |
§3.4 硬脆材料超精密切削模型 | 第35-38页 |
§3.5 超精密切削脆塑转变机理 | 第38-41页 |
§3.6 理论基础和研究方法 | 第41-47页 |
§3.7 硬脆材料超光滑表面磨削技术的发展趋势 | 第47页 |
§3.8 本章小结 | 第47-48页 |
第四章 硬脆光学晶体材料抛光试验 | 第48-67页 |
§4.1 引言 | 第48页 |
§4.2 抛光机理的研究 | 第48-51页 |
§4.3 抛光实验 | 第51-58页 |
§4.4 古典法抛光实验结果分析 | 第58-65页 |
§4.5 本章小结 | 第65-67页 |
结论 | 第67-68页 |
致谢 | 第68-69页 |
参考文献 | 第69-71页 |