GaN基光导器件的光电导研究及紫外薄膜材料均匀性测试系统
摘要 | 第1-9页 |
Abstract | 第9-11页 |
符号说明 | 第11-12页 |
第一章 绪论 | 第12-28页 |
·引言 | 第12-13页 |
·III族氮化物生长技术 | 第13-17页 |
·III族氮化物物理特性 | 第17-20页 |
·基于III族氮化物的紫外探测器 | 第20-24页 |
·研究内容及论文的安排 | 第24-25页 |
参考文献 | 第25-28页 |
第二章 非故意掺杂n型GaN的光电导研究 | 第28-46页 |
·半导体光电探测器的一般理论 | 第28-29页 |
·光电导效应 | 第29-34页 |
·GaN光导器件的制作 | 第34-35页 |
·n型GaN光导器件测试 | 第35-43页 |
·小结 | 第43-44页 |
参考文献 | 第44-46页 |
第三章 紫外薄膜材料均匀性测试系统 | 第46-59页 |
·测试系统的结构设计 | 第46-51页 |
·组成设备的控制 | 第51-56页 |
·测试系统的应用 | 第56-58页 |
·小结 | 第58页 |
参考文献 | 第58-59页 |
第四章 GaN基薄膜材料的均匀性测试与分析 | 第59-68页 |
·相同生长条件,不同Al组分的材料均匀性测试结果 | 第59-62页 |
·相同结构,不同生长条件的材料均匀性测试结果 | 第62-67页 |
·小结 | 第67页 |
参考文献 | 第67-68页 |
第五章 结论 | 第68-69页 |
致谢 | 第69-70页 |
攻读硕士期间发表的学术论文 | 第70-71页 |
学位论文评阅及答辩情况表 | 第71页 |