| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-9页 |
| 第一章 绪论 | 第9-20页 |
| ·引言 | 第9页 |
| ·ZNO 的性质 | 第9-11页 |
| ·ZNO 薄膜的优越性 | 第11-12页 |
| ·ZNO 薄膜的应用 | 第12-15页 |
| ·ZNO 薄膜的制备方法 | 第15-18页 |
| ·本论文研究的目的和意义 | 第18-20页 |
| 第二章 高温单源化学气相沉积原理及实验步骤 | 第20-30页 |
| ·化学气相沉积(CVD)原理与技术 | 第20-22页 |
| ·高温单源化学气相沉积所用固相源的制备 | 第22-24页 |
| ·基片的选择和清洗 | 第24-25页 |
| ·化学气相沉积实验装置——高温管式炉 | 第25-27页 |
| ·实验步骤 | 第27-29页 |
| ·实验结束后的处理工作 | 第29-30页 |
| 第三章 优化实验条件的探索和结果讨论 | 第30-52页 |
| ·基片位置对ZNO 薄膜的影响 | 第30-34页 |
| ·源加热温度对ZNO 薄膜的影响 | 第34-36页 |
| ·衬底温度对ZNO 薄膜的影响 | 第36-38页 |
| ·载气流量对ZNO 薄膜质量的影响 | 第38-43页 |
| ·热处理对ZNO 薄膜质量的影响 | 第43-47页 |
| ·实验条件的探索结果及最终获得的ZNO 薄膜的质量分析 | 第47-51页 |
| ·本章小节 | 第51-52页 |
| 第四章 ZNO 薄膜的P 型掺杂探讨 | 第52-58页 |
| ·ZnO 的 P 型掺杂 | 第52-53页 |
| ·SEM 形貌分析及EDS 半定量分析结果讨论 | 第53-55页 |
| ·霍尔系数测试及结果讨论 | 第55-56页 |
| ·本章小节 | 第56-58页 |
| 第五章 结论 | 第58-59页 |
| 致谢 | 第59-60页 |
| 参考文献 | 第60-64页 |
| 攻硕期间研究成果 | 第64-65页 |
| 个人简介 | 第65-66页 |