SLM无掩模光刻技术的研究
| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-11页 |
| 第一章 绪论 | 第11-32页 |
| ·研究背景 | 第11-14页 |
| ·光学光刻的发展状况 | 第11-13页 |
| ·光学光刻遇到的挑战 | 第13-14页 |
| ·无掩模光刻技术 | 第14-20页 |
| ·SLM无掩模光刻技术发展的现状 | 第20-22页 |
| ·论文研究目的及各章内容安排 | 第22-23页 |
| 参考文献 | 第23-32页 |
| 第二章 光学光刻成像理论 | 第32-56页 |
| ·光学曝光的工艺过程 | 第32-34页 |
| ·曝光过程的基本理论 | 第34-45页 |
| ·部分相干成像理论 | 第34-40页 |
| ·抗蚀剂曝光动力学理论 | 第40-45页 |
| ·显影过程的基本理论 | 第45-48页 |
| ·Mack显影模型 | 第45-46页 |
| ·显影轮廓的确定 | 第46-48页 |
| ·光刻过程计算机仿真实现 | 第48-50页 |
| ·光学曝光质量的评价 | 第50-53页 |
| ·平面结构曝光质量评价 | 第50-52页 |
| ·体结构曝光质量评价 | 第52-53页 |
| ·小结 | 第53页 |
| 参考文献 | 第53-56页 |
| 第三章 MEMS微镜及其光学特性分析 | 第56-82页 |
| ·SLM的概述 | 第56-60页 |
| ·MEMS微镜 | 第60-71页 |
| ·MEMS微镜的发展及在光刻中的应用 | 第60-61页 |
| ·MEMS微镜的结构原理与制作 | 第61-69页 |
| ·MEMS微镜的计算模型 | 第69-71页 |
| ·MEMS微镜光学特性的分析 | 第71-78页 |
| ·MEMS微镜衍射分析 | 第71-75页 |
| ·连续倾斜型和活塞型微镜灰度成像计算 | 第75-78页 |
| ·小结 | 第78页 |
| 参考文献 | 第78-82页 |
| 第四章 高分辨率SLM无掩模光刻的成像分析 | 第82-116页 |
| ·SLM无掩模光刻系统分析 | 第82-85页 |
| ·SLM光刻空间像形成 | 第85-89页 |
| ·成像原理 | 第85-87页 |
| ·系统参量的影响 | 第87-89页 |
| ·MEMS微镜光刻成像特性分析 | 第89-100页 |
| ·线宽调制能力 | 第89-90页 |
| ·线边缘定位能力 | 第90-92页 |
| ·任意位置的孤立线条 | 第92-94页 |
| ·密集线条 | 第94-96页 |
| ·焦深敏感 | 第96-100页 |
| ·改进MEMS微镜结构 | 第100-103页 |
| ·SLM光刻与传统掩模光刻成像质量的比较 | 第103-105页 |
| ·SLM光刻图形质量的改善 | 第105-114页 |
| ·过调制 | 第105-106页 |
| ·衬线功能 | 第106-107页 |
| ·灰度条和散射条功能 | 第107-109页 |
| ·自动优化偏转量改善光刻图形质量 | 第109-114页 |
| ·小结 | 第114页 |
| 参考文献 | 第114-116页 |
| 第五章 DMD光刻制作微光学元件理论与实验研究 | 第116-174页 |
| ·DMD点阵式光刻 | 第117-122页 |
| ·单个微镜成像过程 | 第118-120页 |
| ·单个微镜成像模拟 | 第120-121页 |
| ·微镜阵列成像模拟 | 第121-122页 |
| ·DMD投影式光刻 | 第122-156页 |
| ·DMD投影式光刻系统的设计 | 第122-123页 |
| ·DMD投影式光刻系统的实现 | 第123-126页 |
| ·消DMD象素栅格 | 第126-132页 |
| ·DMD灰度光刻数据传输量的考虑 | 第132-137页 |
| ·脉宽调制编码方法的成像过程 | 第137-138页 |
| ·脉宽调制编码方法的成像分析 | 第138-140页 |
| ·表面起伏产生的物理机理 | 第140-144页 |
| ·表面起伏的实验验证 | 第144-145页 |
| ·表面起伏的校正 | 第145-151页 |
| ·DMD投影光刻中边缘畸变的校正 | 第151-156页 |
| ·DMD投影式光刻系统制作微光学元件 | 第156-171页 |
| ·激光作为光源制作微光学元件存在的问题 | 第156页 |
| ·利用激光光刻系统制作线条 | 第156-158页 |
| ·白光作为光源制作微光学元件的实验研究 | 第158-171页 |
| ·小结 | 第171页 |
| 参考文献 | 第171-174页 |
| 第六章 SPP无掩模光刻新技术的理论研究 | 第174-205页 |
| ·SPP的概念及性质 | 第174-179页 |
| ·SPP的概念 | 第174-175页 |
| ·SPP的发展方向 | 第175-176页 |
| ·SPP的基本性质 | 第176-179页 |
| ·SPP的产生 | 第179-182页 |
| ·TM偏振激发SPP | 第179-180页 |
| ·SPP的产生方式 | 第180-182页 |
| ·SPP干涉光刻技术 | 第182-195页 |
| ·金属光栅法引发SPP干涉光刻模拟 | 第183-186页 |
| ·ATR法引发SPP干涉光刻模拟 | 第186-189页 |
| ·基于end-fire型的SPP干涉 | 第189-193页 |
| ·宽光束的SPP干涉 | 第193-195页 |
| ·SPP制作任意图形结构 | 第195-199页 |
| ·亚波长孔径超强透射机理的概述 | 第195-196页 |
| ·利用厚金属的共振透射制作非周期性结构 | 第196-199页 |
| ·小结 | 第199-200页 |
| 参考文献 | 第200-205页 |
| 第七章 总结 | 第205-207页 |
| 致谢 | 第207-208页 |
| 附录1 | 第208-210页 |
| 附录2 | 第210页 |
| 附录3 | 第210-211页 |
