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聚醚砜-聚酰胺复合荷电纳滤膜的制备技术研究

1 前言第1-24页
 1.1 膜分离技术简介第12-14页
  1.1.1 膜分离技术发展简史及发展前景第12-13页
  1.1.2 膜分离技术特点第13-14页
 1.2 纳滤膜第14-22页
  1.2.1 纳滤膜的发展概况第14页
  1.2.2 纳滤膜的分离机理及理论模型第14-16页
  1.2.3 纳滤膜的制备第16-19页
  1.2.4 纳滤膜的制备材料及种类第19-20页
  1.2.5 纳滤膜的应用第20-22页
  1.2.6 纳滤膜的发展展望第22页
 1.3 课题的提出及其意义第22-24页
2 实验原理及方案第24-36页
 2.1 基膜的制备原理第24-26页
  2.1.1 相转化成膜过程机理第24-25页
  2.1.2 基膜的制备工艺与装置第25-26页
 2.2 纳滤膜的制备原理第26-29页
  2.2.1 聚合单体及溶剂的选择第26-27页
  2.2.2 界面聚合原理第27-28页
  2.2.3 纳滤膜的制备工艺与装置第28-29页
 2.3 实验仪器与药品第29页
  2.3.1 实验仪器(见表2.1)第29页
  2.3.2 实验药品(见表2.2)第29页
 2.4 膜性能表征第29-32页
  2.4.1 膜通量第29-30页
  2.4.2 截留率第30页
  2.4.3 膜的孔径分布及孔隙率第30-32页
  2.4.4 膜性能表征实验装置第32页
 2.5 分析方法第32-36页
  2.5.1 无机盐稀溶液浓度测定第32-33页
  2.5.2 聚乙烯醇(PVA)浓度测定第33-34页
  2.5.3 聚乙二醇(PEG1000)浓度测定第34页
  2.5.4 二甲酚橙浓度测定第34-35页
  2.5.5 甲基绿浓度测定第35-36页
3 基膜制备的实验研究第36-45页
 3.1 基膜制备工艺条件的选择第36-39页
  3.1.1 膜材料的选择第36-37页
  3.1.2 溶剂和非溶剂的选择第37页
  3.1.3 添加剂的选择第37-38页
  3.1.4 基膜制备方案的选择第38-39页
 3.2 基膜制备工艺条件的正交设计第39-42页
  3.2.1 正交实验因素及水平第39页
  3.2.2 正交实验结果分析第39-40页
  3.2.3 模型方程第40-42页
  3.2.4 结果的检验第42页
 3.3 单因素影响的模拟计算第42-43页
 3.4 孔径分布第43-44页
 3.5 结论第44-45页
4 界面聚合制备荷电纳滤膜第45-65页
 4.1 界面聚合实验条件的初步筛选第45-47页
 4.2 均匀设计实验第47页
 4.3 荷正电纳滤膜第47-57页
  4.3.1 均匀设计因素的选定第47-48页
  4.3.2 均匀设计实验设计表第48页
  4.3.3 均匀设计实验结果第48-49页
  4.3.4 均匀设计实验结果的定性分析第49-50页
  4.3.5 均匀设计数据处理第50-57页
 4.4 荷负电纳滤膜第57-63页
  4.4.1 均匀设计因素的选定第57页
  4.4.2 均匀设计实验设计表第57页
  4.4.3 均匀设计实验结果第57-58页
  4.4.4 均匀设计实验结果的定性分析第58-59页
  4.4.5 均匀设计数据处理第59-63页
 4.5 实验所制得的膜与工业膜的比较第63页
 4.6 本章小结第63-65页
5 结论第65-67页
致谢第67-68页
参考文献第68-72页
附录一 作者在攻读硕士学位期间发表的学术论文第72页

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