| 摘要 | 第1-4页 |
| Abstract | 第4-8页 |
| 第一章 引言 | 第8-11页 |
| 第二章 TiO_2薄膜的结构与应用 | 第11-21页 |
| 2．1 TiO_2薄膜的晶体结构 | 第11-12页 |
| 2．2 TiO_2薄膜的应用 | 第12-14页 |
| 2．3 TiO_2薄膜的一般制备方法 | 第14-19页 |
| 2．4 TiO_2薄膜产生光电流的机理及其应用前景 | 第19-20页 |
| 2．5 立体思路及意义 | 第20-21页 |
| 第三章 实验方法 | 第21-34页 |
| 3．1 磁控溅射法的原理及应用 | 第21-22页 |
| 3．1．1 磁控溅射法简介 | 第21页 |
| 3．1．2 磁控溅射的基本原理 | 第21-22页 |
| 3．1．3 磁控溅射的特点及应用 | 第22页 |
| 3．2 直流反应磁控溅射实验装置 | 第22-27页 |
| 3．2．1 直流反应磁控溅射 | 第22-24页 |
| 3．2．2 实验设备的主要技术指标及结构 | 第24-26页 |
| 3．2．3 溅射操作程序 | 第26-27页 |
| 3．3 测试方法 | 第27-34页 |
| 3．3．1 结构分析 | 第27-29页 |
| 3．3．2 形貌分析 | 第29-30页 |
| 3．3．3 光学性质与厚度测试 | 第30-33页 |
| 3．3．4 光响应测试 | 第33-34页 |
| 第四章 实验结果及分析 | 第34-65页 |
| 4．1 衬底温度对TiO_2薄膜的结构、性质的影响 | 第35-38页 |
| 4．1．1 衬底温度对薄膜结构及生长速率的影响 | 第35-36页 |
| 4．1．2 衬底温度对薄膜形貌的影响 | 第36-38页 |
| 4．1．3 衬底温度对薄膜光学性质的影响 | 第38页 |
| 4．1．4 小节 | 第38页 |
| 4．2 溅射气压对TiO_2薄膜的结构、性质的影响 | 第38-43页 |
| 4．2．1 溅射气压对薄膜结构及生长速率的影响 | 第38-41页 |
| 4．2．2 溅射气压对薄膜形貌的影响 | 第41-43页 |
| 4．2．3 溅射气压对薄膜光学性质的影响 | 第43页 |
| 4．2．4 小节 | 第43页 |
| 4．3 氧氢比对TiO_2薄膜的结构、性质的影响 | 第43-48页 |
| 4．3．1 氧氢比对薄膜结构及生长速率的影响 | 第43-46页 |
| 4．3．2 氧氢比对薄膜形貌的影响 | 第46-47页 |
| 4．3．3 氧氢比对薄膜光学性质的影响 | 第47-48页 |
| 4．3．4 小节 | 第48页 |
| 4．4 退火温度对薄膜结构、性质的影响 | 第48-51页 |
| 4．4．1 退火温度对薄膜结构的影响 | 第48-49页 |
| 4．4．2 退火温度对薄膜形貌的影响 | 第49-50页 |
| 4．4．3 退火温度对薄膜光学性质的影响 | 第50-51页 |
| 4．4．4 小节 | 第51页 |
| 4．5 TiO_2薄膜光响应的初步研究 | 第51-60页 |
| 4．5．1 引言 | 第51-53页 |
| 4．5．2 实验过程 | 第53-55页 |
| 4．5．3 实验结果与分析 | 第55-59页 |
| 4．5．4 小节 | 第59-60页 |
| 参考文献 | 第60-65页 |
| 第五章 ZnO薄膜的制备及其紫外光响应性能测试 | 第65-74页 |
| 5．1 ZnO薄膜的文献综述 | 第65-68页 |
| 5．1．1 ZnO的性质 | 第65-67页 |
| 5．1．2 ZnO薄膜的制备技术 | 第67-68页 |
| 5．2 ZnO薄膜的直流反应磁控溅射制备 | 第68页 |
| 5．3 ZnO薄膜的性能测试 | 第68-72页 |
| 5．3．1 ZnO薄膜的晶体结构 | 第68-69页 |
| 5．3．2 ZnO薄膜的形貌 | 第69-70页 |
| 5．3．3 ZnO薄膜的透射谱 | 第70页 |
| 5．3．4 ZnO薄膜的紫外光响应性能测试 | 第70-72页 |
| 5．4 小节 | 第72-73页 |
| 参考文献 | 第73-74页 |
| 第六章 结论 | 第74-76页 |
| 致谢 | 第76-77页 |
| 附录 | 第77页 |
