| 第一章 序言 | 第1-8页 |
| 第二章 溅射制膜的基本原理 | 第8-26页 |
| ·气体中的放电 | 第8-11页 |
| ·溅射原理 | 第11-17页 |
| ·溅射现象 | 第11-12页 |
| ·直流溅射与射频溅射 | 第12-16页 |
| ·磁控溅射 | 第16-17页 |
| ·带电粒子在恒定电场和磁场中的运动 | 第17-23页 |
| ·膜厚测量 | 第23-26页 |
| 第三章 纵向磁场中溅射机理的初步研究 | 第26-45页 |
| ·样品的制备 | 第26-27页 |
| ·纵向磁场中沉积薄膜的宏观形貌 | 第27-35页 |
| ·载玻片上沉积薄膜的宏观形貌 | 第27-31页 |
| ·石英片基片上沉积薄膜的宏观形貌 | 第31-33页 |
| ·非金属薄膜宏观形貌的变化 | 第33-35页 |
| ·溅射机理研究 | 第35-45页 |
| 第四章 总结与展望 | 第45-46页 |
| 参考文献 | 第46-47页 |
| 攻读硕士学位期间的科研成果 | 第47-48页 |
| 致谢 | 第48-49页 |
| 硕士专业学位论文详细摘要 | 第49-51页 |