银离子注入不锈钢、氮化钛薄膜和热解碳的抗菌、抗腐蚀研究
中文摘要 | 第1-5页 |
英文摘要 | 第5-8页 |
目录 | 第8-10页 |
第一章 绪论 | 第10-15页 |
§1.1 引言 | 第10-11页 |
§1.2 相关的研究和应用进展 | 第11-13页 |
§1.3 本文的研究背景和意义 | 第13-14页 |
§1.4 本文的研究内容 | 第14-15页 |
第二章 试验材料、方法和原理 | 第15-38页 |
§2.1 材料编号和预处理 | 第15-19页 |
§2.2 多弧离子沉积TiN薄膜 | 第19-22页 |
§2.3 离子束辅助沉积TiN膜 | 第22-24页 |
§2.4 金属蒸汽弧源(MEVVA)离子注入 | 第24-28页 |
§2.5 材料表面微观结构分析 | 第28-37页 |
§2.6 微观测试参数 | 第37-38页 |
第三章 抗菌性能测试和机理研究 | 第38-55页 |
§3.1 背景 | 第38-39页 |
§3.2 测试方法 | 第39-40页 |
§3.3 测试结果 | 第40-43页 |
§3.4 样品表面形貌对抗菌的影响 | 第43-46页 |
§3.5 抗菌机理研究 | 第46-54页 |
§3.6 本章小结 | 第54-55页 |
第四章 化学、机械性能研究 | 第55-67页 |
§4.1 注入银离子的耐腐蚀性能测试方法 | 第55-57页 |
§4.2 腐蚀测试结果 | 第57-60页 |
§4.3 注入银离子机械性能测试 | 第60-66页 |
§4.4 本章小结 | 第66-67页 |
第五章 材料表面微观测试 | 第67-80页 |
§5.1 X射线衍射(XRD)分析 | 第67-69页 |
§5.2 X射线光电子能谱(XPS) | 第69-74页 |
§5.3 俄歇电子能谱(AES) | 第74-77页 |
§5.4 卢瑟福背散射(RBS)分析 | 第77-78页 |
§5.5 本章小结 | 第78-80页 |
第六章 全文总结 | 第80-82页 |
参考文献 | 第82-86页 |
附录 | 第86-87页 |
致谢 | 第87页 |