| 摘 要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-10页 |
| 1 绪 论 | 第10-22页 |
| ·引言 | 第10页 |
| ·脉冲激光沉积(Pulsed Laser Depostion简称PLD)技术 | 第10-12页 |
| ·PLD技术制备薄膜的实验工艺和独特优点 | 第12-14页 |
| ·其它薄膜制备技术简介 | 第14-18页 |
| ·PLD在功能薄膜研究中的典型应用 | 第18-20页 |
| ·本文的主要研究内容 | 第20-22页 |
| 2 脉冲激光制备薄膜的理论研究现状 | 第22-34页 |
| ·引言 | 第22页 |
| ·Singh-Narayan(S-N)理论模型 | 第22-24页 |
| ·Zhang－Li(Z-L)理论模型 | 第24-28页 |
| ·Zhang－Guan(Z-G)理论模型 | 第28-30页 |
| ·激光支持的吸收波理论模型 | 第30-34页 |
| 3 脉冲激光制备薄膜材料的烧蚀机理研究 | 第34-46页 |
| ·引言 | 第34页 |
| ·激光烧蚀靶材的过程及烧蚀面的位置 | 第34-36页 |
| ·导热方程 | 第36-37页 |
| ·关于靶材表面发生熔融前的温度分布规律 | 第37-40页 |
| ·关于靶材在表面开始发生熔融后的温度分布规律 | 第40-45页 |
| ·本章结论 | 第45-46页 |
| 4 激光等离子体的屏蔽效应研究 | 第46-57页 |
| ·引言 | 第46-47页 |
| ·模型 | 第47-50页 |
| ·以 为例计算并分析烧蚀过程中的一些变化规律 | 第50-56页 |
| ·结论 | 第56-57页 |
| 5 结论 | 第57-59页 |
| 致 谢 | 第59-60页 |
| 参考文献 | 第60-65页 |
| 附录 硕士研究生期间完成论文情况 | 第65页 |