| 摘要 | 第1-4页 |
| Abstract | 第4-6页 |
| 目录 | 第6-8页 |
| 第一章 前言 | 第8-24页 |
| ·选题背景 | 第8-9页 |
| ·PCB 蚀刻技术简介 | 第9-11页 |
| ·PCB 碱性蚀刻废液处理现状 | 第11-13页 |
| ·液膜分离技术概述 | 第13-18页 |
| ·乳化液膜分离技术的优缺点 | 第18-19页 |
| ·乳化液膜技术的应用现状 | 第19-22页 |
| ·论文的研究目的、内容及技术路线 | 第22-24页 |
| 第二章 实验仪器、试剂和方法 | 第24-30页 |
| ·实验主要仪器 | 第24-25页 |
| ·实验主要药品 | 第25-26页 |
| ·实验流程说明 | 第26-28页 |
| ·实验分析方法 | 第28-30页 |
| 第三章 乳化液膜的稳定性 | 第30-41页 |
| ·乳化液膜稳定性的影响因素 | 第30-32页 |
| ·乳化液膜稳定性的计算方法 | 第32页 |
| ·以硫酸作为内水相乳化液膜体系稳定性 | 第32-36页 |
| ·以氨水作为内水相乳化液膜体系稳定性 | 第36-40页 |
| ·本章小结 | 第40-41页 |
| 第四章 乳化液膜体系处理 PCB 碱性蚀刻废液的实验研究 | 第41-63页 |
| ·蚀刻废液的制备 | 第41页 |
| ·T154-N910-H2SO4乳化液膜体系提取配置蚀刻废液的铜离子 | 第41-50页 |
| ·T154-N910-NH3·H2O 乳化液液膜体系提取配置蚀刻废液的铜离子 | 第50-57页 |
| ·正交实验分析 | 第57-59页 |
| ·破乳实验 | 第59-61页 |
| ·处理实际蚀刻废液 | 第61-62页 |
| ·本章小结 | 第62-63页 |
| 第五章 产品回收以及纯度经济分析 | 第63-68页 |
| ·回收结晶硫酸铜 | 第63-64页 |
| ·再生蚀刻液分析 | 第64-65页 |
| ·经济分析 | 第65-66页 |
| ·本章小结 | 第66-68页 |
| 第六章 铜离子迁移机理 | 第68-71页 |
| ·迁移机理 | 第68页 |
| ·红外光谱分析 N910 铜离子萃取机理 | 第68-71页 |
| 第七章 结论与展望 | 第71-73页 |
| ·结论 | 第71-72页 |
| ·展望 | 第72-73页 |
| 参考文献 | 第73-78页 |
| 致谢 | 第78页 |
