高性能光电阴极工艺监控技术研究

摘要	第1-6页
Abstract	第6-9页
1 绪论	第9-12页
·论文的研究背景和意义	第9-10页
·光电阴极工艺监控技术的研究现状	第10-11页
·本文的主要工作和内容安排	第11-12页
2 光电阴极的工作原理和性能参数	第12-21页
·光电阴极的工作原理	第12-15页
·光电发射的基本定律	第12-13页
·电子发射的物理过程	第13-14页
·半导体表面能级和能带弯曲	第14-15页
·光电阴极的特性参数	第15-21页
·光电阴极灵敏度	第15页
·光电阴极光谱响应	第15-18页
·光电阴极量子效率	第18-21页
3 多碱光电阴极的光电流监控技术	第21-32页
·多碱光电阴极监控技术阐述	第21-22页
·多碱光电阴极光谱响应监控技术	第21页
·多碱光电阴极电阻监控技术	第21-22页
·多碱光电阴极光学监控法	第22页
·多碱光电阴极光电法工艺中光电流变化规律	第22-24页
·多碱光电阴极表面模型	第24-27页
·多碱光电阴极光电流法的工艺技术	第27-32页
4 光电阴极工艺监控系统硬件设计	第32-41页
·监控系统的总体设计	第32-33页
·监控系统的数据采集板卡	第33-37页
·A/D数据采集电路	第33-37页
·D/A控制电路	第37页
·信号接口板卡的设计	第37-40页
·高压产生电路	第38-39页
·光电流信号放大电路	第39页
·其他电路介绍	第39-40页
·监控系统误差分析	第40-41页
5 光电阴极工艺监控系统软件设计	第41-49页
·工艺监控软件的运行环境介绍	第41页
·工艺监控软件的总体设计	第41-42页
·工艺监控软件的功能介绍	第42-49页
·监控系统的工艺测试软件	第42-43页
·烘烤除气工艺程序介绍	第43-45页
·工艺监控软件部分功能介绍	第45-46页
·典型的工艺程序介绍	第46-49页
6 结论	第49-50页
致谢	第50-51页
参考文献	第51-52页