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钽酸钾(KTaO3)晶体的生长、表征及其应用

摘要第1-13页
ABSTRACT第13-17页
第一章 绪论第17-32页
 §1.1 引言第17-18页
 §1.2 高温超导材料及其发展第18页
 §1.3 高温超导薄膜制备技术第18-20页
 §1.4 衬底的要求和选择第20-23页
 §1.5 KTaO_3晶体的研究背景第23-24页
 §1.6 单晶衬底的超精密加工第24-26页
  §1.6.1 单晶衬底的抛光方法研究现状第24-25页
  §1.6.2 化学机械抛光(CMP)概述第25-26页
  §1.6.3 化学抛光技术的发展第26页
 §1.7 本论文的研究工作第26-28页
  §1.7.1 晶体生长第27页
  §1.7.2 晶体的缺陷研究第27页
  §1.7.3 晶体的物理性能第27页
  §1.7.4 晶体抛光的研究第27-28页
 参考文献第28-32页
第二章 KTaO_3晶体的生长第32-42页
 §2.1 引言第32页
 §2.2 生长方法及装置第32-34页
 §2.3 KTaO_3单晶生长第34-37页
  §2.3.1 KTaO_3多晶料的合成第34页
  §2.3.2 KTaO_3单晶的生长第34-36页
  §2.3.3 KTaO_3晶体的退火第36-37页
 §2.4 KTaO_3晶体生长相关问题的讨论第37-40页
  §2.4.1 温场的影响第37-38页
  §2.4.2 工艺参数对晶体生长的影响第38-39页
  §2.4.3 籽晶对晶体生长的影响第39页
  §2.4.4 外界因素(杂质、气泡、外场)的影响第39-40页
 §2.5 本章小节第40页
 参考文献第40-42页
第三章 KTaO_3晶体的元素、结构与缺陷表征第42-57页
 §3.1 晶体结构第42-45页
  §3.1.1 晶体的生长形貌第42-43页
  §3.1.2 X射线测定晶体结构第43页
  §3.1.3 晶体组分第43-45页
 §3.2 晶体的缺陷研究第45-51页
  §3.2.1 晶体缺陷的几种研究方法第45-48页
  §3.2.2 KTaO_3晶体缺陷的研究与分析第48-51页
 §3.3 KTaO_3晶体缺陷研究第51-55页
  §3.3.1 化学腐蚀法观察KTaO_3晶体的缺陷第51-54页
  §3.3.2 晶体的摇摆曲线第54-55页
 §3.4 本章小结第55-56页
 参考文献第56-57页
第四章 KTaO_3晶体的基本物理性质第57-69页
 §4.1 引言第57页
 §4.2 KTaO_3晶体的密度第57-58页
 §4.3 KTaO_3晶体的硬度第58-59页
 §4.4 线性光学性质第59-60页
  §4.4.1 折射率第59页
  §4.4.2 透过和吸收光谱第59-60页
 §4.5 热学性质第60-67页
  §4.5.1 比热第60-61页
  §4.5.2 热膨胀第61-63页
  §4.5.3 KTaO_3晶体的密度随温度的变化曲线第63-64页
  §4.5.4 热扩散和热传导第64-67页
 §4.6 本章小结第67-69页
第五章 KTaO_3晶体的超光滑表面加工第69-82页
 §5.1 引言第69-70页
 §5.2 化学机械抛光的原理(CMP)和装置第70-71页
 §5.3 测试工具第71-72页
  §5.3.1 光学显微镜第71页
  §5.3.2 原子力显微镜第71页
  §5.3.3 高分辨X射线衍射仪第71-72页
 §5.4 KTaO_3衬底加工的具体方法及过程第72-74页
 §5.5 检测结果及分析第74-78页
 §5.6 影响化学抛光效率及表面质量的主要因素第78-80页
  §5.6.1 抛光液的影响第78页
  §5.6.2 抛光垫的影响第78-79页
  §5.6.3 压力的影响第79页
  §5.6.4 转速的影响第79页
  §5.6.5 抛光液流量的影响第79-80页
 §5.7 KTaO_3衬底的清洗第80页
 §5.8 本章小结第80-81页
 参考文献第81-82页
第六章 结论及有待进一步开展的工作第82-86页
 §6.1 主要结论第82-84页
 §6.2 本论文的主要创新点第84-85页
 §6.3 有待进一步开展的工作第85-86页
攻读学位期间发表的学术论文第86-87页
致谢第87-88页
学位论文评阅及答辩情况表第88页

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