| 摘要 | 第1-7页 |
| ABSTRACT | 第7-10页 |
| 插图清单 | 第10-11页 |
| 表格清单 | 第11-14页 |
| 第1章 绪论 | 第14-33页 |
| ·研究背景 | 第14-15页 |
| ·ICP-AES分析技术发展及应用 | 第15-16页 |
| ·ICP-AES理论基础 | 第16-21页 |
| ·电感耦合等离子体的物理特性 | 第16-18页 |
| ·ICP光源的激发电离机理 | 第18-19页 |
| ·光谱分析原理 | 第19-21页 |
| ·ICP-AES分析性能 | 第21-22页 |
| ·ICP-AES分析中的干扰与校正研究 | 第22-30页 |
| ·非光谱干扰及校正技术 | 第23-24页 |
| ·光谱干扰及校正技术 | 第24-29页 |
| ·光谱干扰校正技术的应用 | 第29页 |
| ·文献小结 | 第29-30页 |
| ·ICP-AES法在镁及镁合金分析中的应用 | 第30-31页 |
| ·研究内容及意义 | 第31-33页 |
| 第2章 仪器及试剂 | 第33-36页 |
| ·仪器 | 第33页 |
| ·试剂及标准溶液 | 第33-35页 |
| ·元素及分析线 | 第35-36页 |
| 第3章 仪器工作参数的影响研究 | 第36-46页 |
| ·实验部分 | 第36-37页 |
| ·仪器及标准溶液 | 第36页 |
| ·实验方法 | 第36-37页 |
| ·实验结果与讨论 | 第37-45页 |
| ·高频功率、载气流量和观测高度对分析信号和光谱背景的影响 | 第37-40页 |
| ·高频功率、载气流量和观测高度对激发温度的影响 | 第40-42页 |
| ·高频功率、载气流量和观测高度对基体效应的影响 | 第42-45页 |
| ·小结 | 第45-46页 |
| 第4章 分析线选择与光谱干扰研究 | 第46-74页 |
| ·谱线表资料综述 | 第46-48页 |
| ·实验选择分析线 | 第48-67页 |
| ·仪器及工作参数 | 第49页 |
| ·主要试剂与标准溶液 | 第49页 |
| ·实验方法 | 第49页 |
| ·实验结果与讨论 | 第49-67页 |
| ·光谱干扰的校正——校正系数法 | 第67-72页 |
| ·干扰系数的计算 | 第67-68页 |
| ·检出限和背景等效浓度 | 第68-70页 |
| ·校正系数法应用实例 | 第70-72页 |
| ·小结 | 第72-74页 |
| 第5章 镁及镁合金中多元素ICP—AES分析方法的建立 | 第74-84页 |
| ·仪器及分析线 | 第74-75页 |
| ·试料溶液的制备 | 第75-78页 |
| ·制样原则 | 第75-76页 |
| ·不同酸溶解样品的比较与选择 | 第76-78页 |
| ·溶液酸度的控制 | 第78页 |
| ·小结 | 第78页 |
| ·方法工作范围的确定 | 第78-80页 |
| ·校准曲线系列溶液的配制 | 第80-83页 |
| ·校准曲线标准溶液系列一 | 第81页 |
| ·校准曲线标准溶液系列二 | 第81-82页 |
| ·校准曲线标准溶液系列三 | 第82-83页 |
| ·光谱测量与计算 | 第83-84页 |
| 第6章 镁及镁合金样品分析及方法确认 | 第84-102页 |
| ·比照参考方法进行精密度和平均值测量 | 第84-87页 |
| ·实验部分 | 第84页 |
| ·结果与讨论 | 第84-87页 |
| ·对照有证标准物质进行精密度和偏差测量 | 第87-90页 |
| ·实验部分 | 第87页 |
| ·结果与讨论 | 第87-90页 |
| ·方法回收率评估 | 第90-91页 |
| ·镁及镁合金样品分析 | 第91-94页 |
| ·纯镁分析 | 第91页 |
| ·稀土镁合金分析 | 第91-93页 |
| ·模拟镁合金样品分析 | 第93-94页 |
| ·分析结果不确定度的评定 | 第94-95页 |
| ·不确定度的评定——以测定Cu含量为例 | 第95-100页 |
| ·分析方法 | 第95-96页 |
| ·被测量w_(cn)与输入量的函数关系(数学模型) | 第96页 |
| ·不确定度来源分析 | 第96页 |
| ·不确定度分量的评定 | 第96-100页 |
| ·合成标准不确定度评定 | 第100页 |
| ·扩展不确定度评定 | 第100页 |
| ·测量结果的表示 | 第100页 |
| ·测量结果不确定度评定的分析 | 第100-102页 |
| 结论 | 第102-103页 |
| 参考文献 | 第103-107页 |
| 致谢 | 第107-108页 |
| 附录 | 第108-110页 |
