| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-7页 |
| 1 绪论 | 第7-15页 |
| 2 液相外延系统及生长原理 | 第15-27页 |
| ·液相外延系统 | 第15-19页 |
| ·生长原理 | 第19-23页 |
| ·金字塔状GaAs微探生长源的配置 | 第23-27页 |
| 3 制备金字塔状GaAs微探尖阵列的工艺流程 | 第27-34页 |
| ·石墨舟及石英反应室的处理 | 第27页 |
| ·GaAs衬底晶片及生长源的处理 | 第27-28页 |
| ·衬底的处理 | 第27-28页 |
| ·生长源的处理 | 第28页 |
| ·SiO_2掩膜的制备 | 第28页 |
| ·光刻 | 第28-30页 |
| ·金字塔状GaAs微探尖的选择性液相外延生长 | 第30-31页 |
| ·样品的表征方法 | 第31-34页 |
| 4 利用水平式石墨舟与可旋转式石墨舟生长金字塔状GaAs微探尖 | 第34-38页 |
| ·利用水平式石墨舟生长金字塔状GaAs微探尖 | 第34-36页 |
| ·利用可旋转式石墨舟生长金字塔状GaAs微探尖 | 第36-38页 |
| 5 实验结果与分析 | 第38-41页 |
| 结论 | 第41-42页 |
| 参考文献 | 第42-46页 |
| 攻读硕士学位期间发表学术论文情况 | 第46-47页 |
| 致谢 | 第47-48页 |