| 内容提要 | 第1-7页 |
| 第一章 绪论 | 第7-14页 |
| ·金刚石的结构 | 第7-8页 |
| ·化学气相沉积（CVD）金刚石膜的制备方法 | 第8-10页 |
| ·硼掺杂金刚石膜的性质及应用前景 | 第10-13页 |
| ·硼掺杂金刚石膜在微电子领域的应用 | 第11-12页 |
| ·金刚石电极在电化学领域的应用 | 第12-13页 |
| ·论文的选题及主要研究内容 | 第13-14页 |
| 第二章 实验设备介绍与表征技术 | 第14-17页 |
| ·电子辅助热灯丝法（EA-HFCVD）实验设备简介 | 第14页 |
| ·样品的表征 | 第14-17页 |
| 第三章 自支撑硼掺杂金刚石膜的制备及生长特性 | 第17-22页 |
| ·样品的制备 | 第17页 |
| ·SEM 形貌分析 | 第17-19页 |
| ·XRD 结构分析 | 第19-21页 |
| ·本章小结 | 第21-22页 |
| 第四章 自支撑硼掺杂金刚石膜Raman 光谱研究 | 第22-32页 |
| ·Fano 量子干涉理论[47] | 第22-24页 |
| ·不同硼流量自支撑硼掺杂金刚石膜Raman 谱 | 第24-25页 |
| ·拉曼光谱Fano 干涉q 值拟合 | 第25-27页 |
| ·不同位置或区域q 值及对应硼掺杂浓度比较 | 第27-31页 |
| ·(110)和(111)晶面 | 第27页 |
| ·晶界与晶粒 | 第27-28页 |
| ·中心与边缘 | 第28-29页 |
| ·横截面 | 第29-31页 |
| ·本章小结 | 第31-32页 |
| 第五章 自支撑硼掺杂金刚石膜的应力分析 | 第32-39页 |
| ·薄膜残余应力XRD (sin~2ψ方法)分析 | 第32-37页 |
| ·sin~2ψ方法 | 第32-34页 |
| ·残余应力 | 第34-37页 |
| ·薄膜微观应力XRD 分析 | 第37-38页 |
| ·本章小结 | 第38-39页 |
| 第六章 全文总结 | 第39-40页 |
| 参考文献 | 第40-46页 |
| 攻读硕士期间发表的论文 | 第46-47页 |
| 致谢 | 第47-48页 |
| 摘要 | 第48-50页 |
| Abstract | 第50-51页 |