单晶铜氧化行为的研究
| 摘要 | 第1-8页 |
| Abstract | 第8-10页 |
| 第1章 绪论 | 第10-19页 |
| ·单晶铜的性能 | 第10-15页 |
| ·铜的性能及应用 | 第10-12页 |
| ·单晶铜及其性能 | 第12-13页 |
| ·单晶铜的应用 | 第13-15页 |
| ·铜氧化研究现状 | 第15-16页 |
| ·选题背景和意义 | 第16-18页 |
| ·研究内容 | 第18-19页 |
| 第2章 研究方案 | 第19-22页 |
| ·铜氧化理论研究 | 第19页 |
| ·铜氧化实验及样品制备 | 第19-20页 |
| ·分析方法 | 第20-21页 |
| ·本章小结 | 第21-22页 |
| 第3章 单晶铜氧化理论研究 | 第22-45页 |
| ·铜氧化热力学计算和分析 | 第22-25页 |
| ·铜氧化机理 | 第25-26页 |
| ·铜氧化微观过程和动力学规律的理论研究 | 第26-32页 |
| ·铜氧化膜研究 | 第32-34页 |
| ·铜氧化膜的生长机理 | 第32页 |
| ·铜氧化膜的完整性判断和其结合键特点 | 第32-34页 |
| ·铜表面研究 | 第34-36页 |
| ·铜表面能量对铜氧化影响的分析 | 第34页 |
| ·铜表面高能原子对铜氧化影响分析 | 第34-35页 |
| ·铜表面结构对铜氧化影响的分析 | 第35-36页 |
| ·铜与氧气反应宏观过程及其影响因素分析 | 第36-38页 |
| ·铜氧化反应宏观过程 | 第36-37页 |
| ·纯度对铜氧化性能的影响 | 第37-38页 |
| ·晶界对铜氧化性能的影响 | 第38页 |
| ·铜氧化膜的生长过程研究 | 第38-40页 |
| ·铜氧化膜形貌分析 | 第40-43页 |
| ·单晶铜抗氧化性能 | 第43-44页 |
| ·本章小结 | 第44-45页 |
| 第4章 单晶铜氧化动力学研究 | 第45-57页 |
| ·氧化气氛对单晶铜氧化动力学的影响 | 第45-51页 |
| ·大气中单晶铜与多晶铜氧化动力学研究 | 第45-48页 |
| ·纯氧气氛下单晶铜与多晶铜氧化动力学研究 | 第48-51页 |
| ·温度、组织和纯度对单晶铜氧化动力学的影响 | 第51-54页 |
| ·晶粒大小对铜氧化动力学的影响 | 第54-56页 |
| ·本章小结 | 第56-57页 |
| 总结与展望 | 第57-60页 |
| 参考文献 | 第60-64页 |
| 致谢 | 第64-65页 |
| 攻读硕士期间发表论文 | 第65页 |
