镁合金低能耗微弧氧化工艺优化及其机理研究
| 摘要 | 第1-7页 |
| ABSTRACT | 第7-12页 |
| 第一章 绪论 | 第12-27页 |
| ·课题背景 | 第12-13页 |
| ·镁合金的特点及应用现状 | 第13-15页 |
| ·镁合金特点 | 第13-14页 |
| ·镁合金的应用现状 | 第14页 |
| ·限制镁合金应用领域扩展的主要问题 | 第14-15页 |
| ·传统的镁合金表面处理技术 | 第15-18页 |
| ·化学转化处理 | 第15-16页 |
| ·阳极氧化处理 | 第16-17页 |
| ·金属涂镀处理 | 第17页 |
| ·有机物涂敷处理 | 第17页 |
| ·激光表面处理 | 第17页 |
| ·离子注入 | 第17-18页 |
| ·气相沉积 | 第18页 |
| ·溶胶-凝胶法 | 第18页 |
| ·微弧氧化技术 | 第18-24页 |
| ·微弧氧化技术简介 | 第18-20页 |
| ·微弧氧化技术的特点 | 第20-22页 |
| ·微弧氧化技术的发展历史 | 第22-23页 |
| ·微弧氧化技术的研究现状及存在的问题 | 第23-24页 |
| ·低能耗镁合金微弧氧化技术的研究概述 | 第24-26页 |
| ·本文的研究目的及主要研究内容 | 第26-27页 |
| 第二章 实验设备及方法 | 第27-34页 |
| ·实验设备 | 第27页 |
| ·实验材料 | 第27-28页 |
| ·实验的技术路线 | 第28-29页 |
| ·微弧氧化陶瓷膜的制备 | 第29-30页 |
| ·试样的制备及前处理 | 第29页 |
| ·电解液的配置 | 第29页 |
| ·微弧氧化处理 | 第29页 |
| ·试样后处理 | 第29-30页 |
| ·微弧氧化膜的表征 | 第30-34页 |
| ·膜层的厚度测试 | 第30页 |
| ·膜层的相结构分析 | 第30页 |
| ·膜层的微观形貌及化学成分分析 | 第30页 |
| ·膜层的硬度分析 | 第30页 |
| ·膜层附着强度测试 | 第30-31页 |
| ·静态接触角测量 | 第31页 |
| ·膜层的耐蚀性能分析 | 第31-34页 |
| 第三章 微弧氧化工艺参数优化 | 第34-60页 |
| ·前言 | 第34页 |
| ·电解液的优化 | 第34-39页 |
| ·主溶液体系的优化 | 第34-36页 |
| ·添加剂优化 | 第36-38页 |
| ·电解液最终优化 | 第38-39页 |
| ·电参数的优化 | 第39-41页 |
| ·电解质成分对微弧氧化行为的影响 | 第41-46页 |
| ·NaAlO_2 对镁合金微弧氧化行为的影响 | 第41-43页 |
| ·Na_2HPO_4 对镁合金微弧氧化行为的影响 | 第43-44页 |
| ·KF对镁合金微弧氧化行为的影响 | 第44-46页 |
| ·电参数对微弧氧化行为的影响 | 第46-49页 |
| ·电流密度对镁合金微弧氧化行为的影响 | 第46-47页 |
| ·占空比对镁合金微弧氧化行为的影响 | 第47-48页 |
| ·频率对镁合金微弧氧化行为的影响 | 第48-49页 |
| ·负向电压对微弧氧化行为的影响 | 第49-56页 |
| ·负向电压对膜厚及单位能耗的影响 | 第50-51页 |
| ·负向电压对微弧氧化膜层元素分布的影响 | 第51-54页 |
| ·负向电压对微弧氧化膜层的结构影响 | 第54-56页 |
| ·微弧氧化过程的三个阶段 | 第56-58页 |
| ·本章小结 | 第58-60页 |
| 第四章 微弧氧化膜层的形貌及组织特征 | 第60-67页 |
| ·微弧氧化膜层表面形貌 | 第60-64页 |
| ·微弧氧化膜层的组成及物相分析 | 第64页 |
| ·膜层的组成 | 第64-65页 |
| ·本章小结 | 第65-67页 |
| 第五章 微弧氧化膜的性能 | 第67-72页 |
| ·膜层的耐蚀性能 | 第67-68页 |
| ·盐雾试验 | 第67页 |
| ·全浸实验 | 第67-68页 |
| ·动电位极化曲线 | 第68页 |
| ·膜层的硬度 | 第68-69页 |
| ·膜层的结合强度 | 第69-70页 |
| ·膜层的润湿性能 | 第70-71页 |
| ·本章小结 | 第71-72页 |
| 全文结论与展望 | 第72-74页 |
| 参考文献 | 第74-79页 |
| 攻读硕士学位期间取得的研究成果 | 第79-80页 |
| 致谢 | 第80页 |
