| 摘要 | 第3-4页 |
| abstract | 第4页 |
| 第1章 绪论 | 第7-27页 |
| 1.1 引言 | 第7页 |
| 1.2 荧光染料的分类及基本特征 | 第7-10页 |
| 1.2.1 苝二酰亚胺类荧光染料 | 第7-8页 |
| 1.2.2 方酸类荧光染料 | 第8页 |
| 1.2.3 酞菁类荧光染料 | 第8-9页 |
| 1.2.4 菁类荧光染料 | 第9页 |
| 1.2.5 卟啉类荧光染料 | 第9-10页 |
| 1.2.6 氟硼二吡咯类荧光染料 | 第10页 |
| 1.3 荧光发射波长的影响因素 | 第10-11页 |
| 1.4 氮杂氟硼二吡咯类荧光染料的基本结构和性能 | 第11-12页 |
| 1.5 氮杂氟硼二吡咯类染料的合成 | 第12-14页 |
| 1.6 近红外荧光染料 | 第14-15页 |
| 1.6.1 近红外荧光染料的概述 | 第14页 |
| 1.6.2 近红外氟硼二吡咯类荧光染料的结构修饰 | 第14-15页 |
| 1.7 氮杂氟硼二吡咯类近红外荧光染料的研究进展 | 第15-25页 |
| 1.8 选题的目的、内容及意义 | 第25-27页 |
| 第2章 共轭体系扩展的氮杂氟硼二吡咯类荧光染料的合成与性质 | 第27-51页 |
| 2.0 引言 | 第27-28页 |
| 2.1 实验试剂与物质表征 | 第28-33页 |
| 2.1.1 实验试剂 | 第28-29页 |
| 2.1.2 实验仪器及设备 | 第29-30页 |
| 2.1.3 化合物的表征与性质测试 | 第30-33页 |
| 2.2 芴基取代的氮杂氟硼二吡咯类荧光染料的合成 | 第33-36页 |
| 2.3 四苯乙烯基取代的氮杂氟硼二吡咯类荧光染料的合成 | 第36-40页 |
| 2.4 化合物性质 | 第40-45页 |
| 2.4.1 紫外吸收光谱性质 | 第40-41页 |
| 2.4.2 发射光谱性质 | 第41-42页 |
| 2.4.3 荧光量子产率测试 | 第42-43页 |
| 2.4.4 电化学性质 | 第43-45页 |
| 2.5 密度泛函理论计算 | 第45-46页 |
| 2.6 化合物晶体结构 | 第46-48页 |
| 2.7 细胞成像 | 第48-49页 |
| 2.8 小结 | 第49-51页 |
| 第3章 四苯乙烯基取代的氮杂氟硼二吡咯聚集诱导发光性质的探究 | 第51-57页 |
| 3.1 引言 | 第51-52页 |
| 3.2 实验部分 | 第52页 |
| 3.2.1 实验试剂 | 第52页 |
| 3.2.2 化合物的表征与性质测试 | 第52页 |
| 3.3 聚集态发光性质的研究 | 第52-56页 |
| 3.3.1 化合物5c的光谱性质 | 第53-55页 |
| 3.3.2 化合物5d的光谱性质 | 第55-56页 |
| 3.4 小结 | 第56-57页 |
| 第4章 结论与展望 | 第57-59页 |
| 参考文献 | 第59-67页 |
| 附录 | 第67-79页 |
| 发表论文和参加科研情况说明 | 第79-81页 |
| 致谢 | 第81页 |
