| 中文摘要 | 第3-4页 |
| 英文摘要 | 第4-5页 |
| 1 绪论 | 第8-19页 |
| 1.1 引言 | 第8页 |
| 1.2 研究背景 | 第8-18页 |
| 1.2.1 物理气相沉积 | 第8-9页 |
| 1.2.2 磁控溅射技术 | 第9-10页 |
| 1.2.3 CrSiN涂层 | 第10-12页 |
| 1.2.4 磨蚀研究 | 第12-18页 |
| 1.3 本课题研究目的意义及内容 | 第18-19页 |
| 1.3.1 研究目的意义 | 第18页 |
| 1.3.2 研究内容 | 第18-19页 |
| 2 实验设备与研究方法 | 第19-28页 |
| 2.1 磁控溅射设备及涂层制备 | 第19-20页 |
| 2.1.1 磁控溅射设备 | 第19页 |
| 2.1.2 涂层制备 | 第19-20页 |
| 2.2 涂层表征方法 | 第20-28页 |
| 2.2.1 成分表征 | 第20-21页 |
| 2.2.2 结构表征 | 第21-25页 |
| 2.2.3 力学性能测试 | 第25-26页 |
| 2.2.4 磨蚀行为测试 | 第26-28页 |
| 3 不同靶压Cr_(1-x)Si_xN涂层磨蚀行为研究 | 第28-44页 |
| 3.1 镀膜参数 | 第28页 |
| 3.2 涂层基本信息 | 第28-29页 |
| 3.3 结构表征 | 第29-32页 |
| 3.3.1 物相结构分析 | 第29页 |
| 3.3.2 密度分析 | 第29-30页 |
| 3.3.3 表面形貌与截面形貌 | 第30-32页 |
| 3.4 力学性能 | 第32-35页 |
| 3.5 耐腐蚀性 | 第35页 |
| 3.6 抗磨损性能 | 第35-38页 |
| 3.7 抗磨蚀性能 | 第38-41页 |
| 3.8 磨蚀因素 | 第41-43页 |
| 3.9 本章小结 | 第43-44页 |
| 4 不同偏压CrSiN涂层磨蚀行为研究 | 第44-60页 |
| 4.1 镀膜参数 | 第44页 |
| 4.2 涂层基本信息 | 第44-45页 |
| 4.3 结构表征 | 第45-46页 |
| 4.3.1 截面形貌 | 第45页 |
| 4.3.2 生长结构 | 第45-46页 |
| 4.4 力学性能 | 第46-49页 |
| 4.5 耐腐蚀性能 | 第49-50页 |
| 4.6 磨蚀测试及微区分析 | 第50-56页 |
| 4.7 磨蚀机制 | 第56-59页 |
| 4.8 本章小结 | 第59-60页 |
| 5 结论与展望 | 第60-61页 |
| 5.1 结论 | 第60页 |
| 5.2 展望 | 第60-61页 |
| 致谢 | 第61-62页 |
| 参考文献 | 第62-68页 |
| 附录 | 第68页 |
| A.作者在攻读硕士学位期间发表的论文题目 | 第68页 |