低真空WF6气体纯度分析技术研究及应用
中文摘要 | 第3-4页 |
abstract | 第4页 |
第一章 文献综述 | 第7-17页 |
1.1 前言 | 第7-8页 |
1.1.1 研究背景 | 第7页 |
1.1.2 研究意义 | 第7-8页 |
1.2 同位素的应用概述 | 第8-10页 |
1.2.1 同位素 | 第8-9页 |
1.2.2 钨同位素 | 第9-10页 |
1.3 现有分析技术概述 | 第10-15页 |
1.3.1 气相色谱法 | 第10-12页 |
1.3.2 傅里叶红外光谱法 | 第12-14页 |
1.3.3 质谱法 | 第14-15页 |
1.4 论文主要研究内容 | 第15-17页 |
第二章 分析方法研究及工艺流程设计 | 第17-33页 |
2.1 钨同位素生产过程的特点分析 | 第17-18页 |
2.1.1 生产设备特点 | 第17-18页 |
2.1.2 气体流动参数分析 | 第18页 |
2.2 相关气体物性参数概述 | 第18-25页 |
2.2.1 六氟化钨 | 第18-20页 |
2.2.2 氟化氢 | 第20-22页 |
2.2.3 氧气 | 第22-23页 |
2.2.4 氮气 | 第23-25页 |
2.3 纯度分析方法确定与流程设计 | 第25-31页 |
2.3.1 基本原理的确定 | 第25-27页 |
2.3.2 原理流程设计 | 第27-28页 |
2.3.3 工艺流程设计 | 第28-29页 |
2.3.4 取样过程设计 | 第29-30页 |
2.3.5 分析过程设计 | 第30-31页 |
2.4 本章小结 | 第31-33页 |
第三章 深冷分离装置的传热计算 | 第33-57页 |
3.1 深冷分离的工艺参数计算 | 第33-35页 |
3.1.1 深冷分离技术简介 | 第33-34页 |
3.1.2 气体纯度分析系统中的深冷分离装置组成 | 第34-35页 |
3.2 低温热交换器的分类与选择 | 第35-39页 |
3.2.1 低温热交换器简介 | 第35页 |
3.2.2 表面式低温热交换器的分类及特点 | 第35-38页 |
3.2.3 低温热交换器的确定 | 第38-39页 |
3.3 低温热交换器的参数计算 | 第39-55页 |
3.3.1 各级热交换器的冷量计算模型 | 第39-43页 |
3.3.2 低温换热参数的计算模型 | 第43-48页 |
3.3.3 计算结果 | 第48-55页 |
3.4 本章小结 | 第55-57页 |
第四章 系统与装置结构设计 | 第57-75页 |
4.1 关键部件设计 | 第57-63页 |
4.1.1 制冷装置选型 | 第57-58页 |
4.1.2 第一级换热器设计 | 第58-60页 |
4.1.3 第二级换热器设计 | 第60-61页 |
4.1.4 隔热装置设计 | 第61-63页 |
4.2 配套部件设计与选型 | 第63-70页 |
4.2.1 控温装置 | 第63-66页 |
4.2.2 抽空装置 | 第66-67页 |
4.2.3 含量分析装置 | 第67-70页 |
4.2.4 其他辅助装置 | 第70页 |
4.3 系统总体设计 | 第70-73页 |
4.3.1 系统的总体布局设计 | 第70-72页 |
4.3.2 取样与分析方法的优化设计 | 第72-73页 |
4.4 本章小结 | 第73-75页 |
第五章 系统性能测试及误差分析 | 第75-85页 |
5.1 系统性能测试 | 第75-79页 |
5.1.1 性能测试方法 | 第75页 |
5.1.2 性能测试结果 | 第75-79页 |
5.2 误差分析 | 第79-83页 |
5.2.1 误差来源概述 | 第79-80页 |
5.2.2 分析装置的整体误差分析 | 第80-82页 |
5.2.3 关于理想气体状态方程适用性的讨论 | 第82-83页 |
5.3 本章小结 | 第83-85页 |
第六章 结论及展望 | 第85-87页 |
6.1 结论 | 第85-86页 |
6.2 未来工作展望 | 第86-87页 |
参考文献 | 第87-91页 |
符号说明 | 第91-93页 |
致谢 | 第93页 |