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低真空WF6气体纯度分析技术研究及应用

中文摘要第3-4页
abstract第4页
第一章 文献综述第7-17页
    1.1 前言第7-8页
        1.1.1 研究背景第7页
        1.1.2 研究意义第7-8页
    1.2 同位素的应用概述第8-10页
        1.2.1 同位素第8-9页
        1.2.2 钨同位素第9-10页
    1.3 现有分析技术概述第10-15页
        1.3.1 气相色谱法第10-12页
        1.3.2 傅里叶红外光谱法第12-14页
        1.3.3 质谱法第14-15页
    1.4 论文主要研究内容第15-17页
第二章 分析方法研究及工艺流程设计第17-33页
    2.1 钨同位素生产过程的特点分析第17-18页
        2.1.1 生产设备特点第17-18页
        2.1.2 气体流动参数分析第18页
    2.2 相关气体物性参数概述第18-25页
        2.2.1 六氟化钨第18-20页
        2.2.2 氟化氢第20-22页
        2.2.3 氧气第22-23页
        2.2.4 氮气第23-25页
    2.3 纯度分析方法确定与流程设计第25-31页
        2.3.1 基本原理的确定第25-27页
        2.3.2 原理流程设计第27-28页
        2.3.3 工艺流程设计第28-29页
        2.3.4 取样过程设计第29-30页
        2.3.5 分析过程设计第30-31页
    2.4 本章小结第31-33页
第三章 深冷分离装置的传热计算第33-57页
    3.1 深冷分离的工艺参数计算第33-35页
        3.1.1 深冷分离技术简介第33-34页
        3.1.2 气体纯度分析系统中的深冷分离装置组成第34-35页
    3.2 低温热交换器的分类与选择第35-39页
        3.2.1 低温热交换器简介第35页
        3.2.2 表面式低温热交换器的分类及特点第35-38页
        3.2.3 低温热交换器的确定第38-39页
    3.3 低温热交换器的参数计算第39-55页
        3.3.1 各级热交换器的冷量计算模型第39-43页
        3.3.2 低温换热参数的计算模型第43-48页
        3.3.3 计算结果第48-55页
    3.4 本章小结第55-57页
第四章 系统与装置结构设计第57-75页
    4.1 关键部件设计第57-63页
        4.1.1 制冷装置选型第57-58页
        4.1.2 第一级换热器设计第58-60页
        4.1.3 第二级换热器设计第60-61页
        4.1.4 隔热装置设计第61-63页
    4.2 配套部件设计与选型第63-70页
        4.2.1 控温装置第63-66页
        4.2.2 抽空装置第66-67页
        4.2.3 含量分析装置第67-70页
        4.2.4 其他辅助装置第70页
    4.3 系统总体设计第70-73页
        4.3.1 系统的总体布局设计第70-72页
        4.3.2 取样与分析方法的优化设计第72-73页
    4.4 本章小结第73-75页
第五章 系统性能测试及误差分析第75-85页
    5.1 系统性能测试第75-79页
        5.1.1 性能测试方法第75页
        5.1.2 性能测试结果第75-79页
    5.2 误差分析第79-83页
        5.2.1 误差来源概述第79-80页
        5.2.2 分析装置的整体误差分析第80-82页
        5.2.3 关于理想气体状态方程适用性的讨论第82-83页
    5.3 本章小结第83-85页
第六章 结论及展望第85-87页
    6.1 结论第85-86页
    6.2 未来工作展望第86-87页
参考文献第87-91页
符号说明第91-93页
致谢第93页

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