摘要 | 第6-7页 |
ABSTRACT | 第7-8页 |
第一章 文献综述 | 第12-28页 |
1.1 前言 | 第12页 |
1.2 膜分离技术概述 | 第12-17页 |
1.2.1 膜分离技术的分类 | 第12-13页 |
1.2.2 膜材料 | 第13-15页 |
1.2.3 膜结构 | 第15-16页 |
1.2.4 膜分离机理 | 第16-17页 |
1.2.5 膜组件结构 | 第17页 |
1.3 膜分离技术在氨基酸脱色工艺中的应用 | 第17-19页 |
1.4 氨基酸脱色工艺中的浓差极化与膜污染 | 第19-21页 |
1.4.1 浓差极化 | 第19页 |
1.4.2 膜污染的机理 | 第19-21页 |
1.5 氨基酸脱色工艺中膜污染的防控和清洗 | 第21-26页 |
1.5.1 膜材料的改性 | 第21-22页 |
1.5.2 预处理工艺 | 第22-23页 |
1.5.3 生物处理法 | 第23-24页 |
1.5.4 物理清洗 | 第24-25页 |
1.5.5 化学清洗 | 第25-26页 |
1.6 本论文研究的目的及主要内容 | 第26-28页 |
1.6.1 本论文研究的目的与意义 | 第26-27页 |
1.6.2 本论文研究的主要内容 | 第27-28页 |
第二章 实验 | 第28-34页 |
2.1 实验药品与仪器 | 第28-29页 |
2.1.1 实验药品 | 第28页 |
2.1.2 实验仪器 | 第28-29页 |
2.2 清洗性能测试装置 | 第29-30页 |
2.3 清洗方法 | 第30-31页 |
2.3.1 清洗剂配制 | 第30-31页 |
2.3.2单因素实验 | 第31页 |
2.3.3 正交试验 | 第31页 |
2.4 主要分析方法 | 第31-34页 |
2.4.1 膜表面形貌分析 | 第31-32页 |
2.4.2 膜表面能谱分析 | 第32页 |
2.4.3 X射线光电子能谱分析 | 第32页 |
2.4.4 接触角分析 | 第32页 |
2.4.5 膜表面Zeta电位分析 | 第32-34页 |
第三章 化学清洗对污染膜通量恢复率的研究 | 第34-49页 |
3.1 引言 | 第34页 |
3.2 实验部分 | 第34-36页 |
3.2.1 实验药品及仪器 | 第34-35页 |
3.2.2 实验方法 | 第35-36页 |
3.3 结果与讨论 | 第36-47页 |
3.3.1 污染物分析 | 第36-40页 |
3.3.1.1 污染膜扫描电镜分析 | 第36-37页 |
3.3.1.2 污染膜表面能谱分析 | 第37-38页 |
3.3.1.3 污染膜表面XPS元素分析 | 第38-39页 |
3.3.1.4 污染膜和原膜表面Zeta电位分析 | 第39-40页 |
3.3.2 清洗条件对膜通量恢复率的影响 | 第40-43页 |
3.3.2.1 膜通量衰减率的测试 | 第40页 |
3.3.2.2 温度对膜通量恢复率的影响 | 第40-42页 |
3.3.2.3 pH值对膜通量恢复率的影响 | 第42页 |
3.3.2.4 清洗时间对膜通量恢复率的影响 | 第42-43页 |
3.3.3 清洗剂各组分含量对膜通量恢复率的影响 | 第43-47页 |
3.3.3.1 乙二胺四乙酸四钠的含量对膜通量恢复率的影响 | 第43-44页 |
3.3.3.2 三聚磷酸钠的含量对膜通量恢复率的影响 | 第44-45页 |
3.3.3.3 十二烷基磺酸钠的含量对膜通量恢复率的影响 | 第45-46页 |
3.3.3.4 过硫酸钾的含量对膜通量恢复率的影响 | 第46-47页 |
3.4 本章小结 | 第47-49页 |
第四章 正交试验对清洗实验优化研究 | 第49-65页 |
4.1 引言 | 第49页 |
4.2 实验部分 | 第49-51页 |
4.2.1 实验药品及仪器 | 第49-50页 |
4.2.2 实验方法 | 第50-51页 |
4.3 结果与讨论 | 第51-63页 |
4.3.1 正交试验对清洗实验的优化 | 第51-55页 |
4.3.1.1 正交试验因素选择 | 第51页 |
4.3.1.2 正交试验结果分析 | 第51-54页 |
4.3.1.3优化下的平行实验 | 第54-55页 |
4.3.2 清洗前后膜性能的对比 | 第55-56页 |
4.3.3 清洗后对比分析膜污染情况 | 第56-63页 |
4.3.3.1 清洗后污染膜扫描电镜分析 | 第56-59页 |
4.3.3.2 清洗前后污染膜表面能谱分析 | 第59-60页 |
4.3.3.3 清洗后膜表面XPS元素分析 | 第60-61页 |
4.3.3.4 清洗前后污染膜表面接触角测试分析 | 第61-62页 |
4.3.3.5 清洗后膜表面Zeta电位分析 | 第62-63页 |
4.4 本章小结 | 第63-65页 |
第五章 结论与展望 | 第65-67页 |
5.1 结论 | 第65-66页 |
5.2 展望 | 第66-67页 |
参考文献 | 第67-75页 |
致谢 | 第75-76页 |
攻读硕士期间所作口头报告 | 第76-77页 |
攻读硕士期间发表文章 | 第77-78页 |
攻读硕士期间申请专利 | 第78页 |