中文摘要 | 第4-6页 |
Abstract | 第6-7页 |
第一章 绪论 | 第11-26页 |
1.1 引言 | 第11-12页 |
1.2 氧化钒的晶体结构及性质 | 第12-15页 |
1.3 VO_2材料的应用 | 第15-16页 |
1.4 溶胶凝胶法制备VO_2薄膜的研究进展 | 第16-18页 |
1.4.1 无机溶胶凝胶法 | 第17页 |
1.4.2 有机溶胶凝胶法 | 第17-18页 |
1.5 增大VO_2薄膜可见光透过率的研究进展 | 第18-22页 |
1.5.1 Mg和F-的掺杂 | 第18-19页 |
1.5.2 复合薄膜结构 | 第19页 |
1.5.3 多层堆叠设计 | 第19-20页 |
1.5.4 降低薄膜厚度 | 第20页 |
1.5.5 多孔薄膜结构 | 第20-22页 |
1.6 掺杂降低相变温度的研究进展 | 第22-23页 |
1.7 本论文的主要研究意义、目的和内容 | 第23-26页 |
1.7.1 主要研究意义和目的 | 第23-24页 |
1.7.2 研究内容 | 第24-26页 |
第二章 实验方案 | 第26-31页 |
2.1 VO_2薄膜制备 | 第26-28页 |
2.1.1 纯氧化钒溶胶的制备 | 第26页 |
2.1.2 钨掺杂氧化钒溶胶的制备 | 第26-27页 |
2.1.3 基片的选择及预处理 | 第27页 |
2.1.4 旋涂成膜 | 第27页 |
2.1.5 真空退火 | 第27-28页 |
2.2 薄膜测试及表征方法 | 第28-31页 |
2.2.1 光学性能测试 | 第28页 |
2.2.2 XRD物相表征 | 第28-29页 |
2.2.3 微观形貌表征 | 第29页 |
2.2.4 X射线光电子能谱仪测试 | 第29-30页 |
2.2.5 拉曼光谱分析 | 第30-31页 |
第三章 V_2O_5-H_2O_2溶胶制备VO_2薄膜与性能研究 | 第31-41页 |
3.1 VO_2薄膜的制备 | 第31-32页 |
3.2 退火条件及溶胶浓度对薄膜光学性能的影响 | 第32-37页 |
3.2.1 退火温度 | 第32-34页 |
3.2.2 退火时间 | 第34-36页 |
3.2.3 溶胶浓度 | 第36-37页 |
3.3 退火工艺对薄膜物相的影响 | 第37-39页 |
3.3.1 退火温度 | 第37-38页 |
3.3.2 退火时间 | 第38-39页 |
3.4 薄膜的形貌分析 | 第39-40页 |
3.5 本章小结 | 第40-41页 |
第四章 V_2O_5-H_2O_2-H_2C_2O_4溶胶制备VO_2薄膜与性能研究 | 第41-64页 |
4.1 VO_2薄膜的制备 | 第41-42页 |
4.2 溶胶比例V_2O_5:H_2C_2O_4=1:2 | 第42-51页 |
4.2.1 干凝胶粉末的物相及成分分析 | 第42-43页 |
4.2.2 不同制备参数对薄膜性能的影响 | 第43-48页 |
4.2.3 不同退火参数制备薄膜的物相表征 | 第48-50页 |
4.2.4 VO_2薄膜的XPS测试 | 第50-51页 |
4.3 溶胶比例V_2O_5:H_2C_2O_4=1:3 | 第51-53页 |
4.3.1 不同退火时间对薄膜光学性能的影响 | 第51-53页 |
4.3.2 退火时间对薄膜物相的影响 | 第53页 |
4.4 VO_2薄膜的FE-SEM表征 | 第53-56页 |
4.5 VO_2薄膜的相变温度 | 第56页 |
4.6 溶胶配比对薄膜性能及形貌的影响 | 第56-62页 |
4.6.1 不同草酸比例对薄膜的影响 | 第56-58页 |
4.6.2 不同H_2O_2比例对薄膜的影响 | 第58-62页 |
4.7 本章小结 | 第62-64页 |
第五章 掺钨氧化钒薄膜的制备及性能 | 第64-74页 |
5.1 掺钨氧化钒薄膜的制备 | 第64-65页 |
5.2 退火压力对纯氧化钒薄膜的影响 | 第65-68页 |
5.2.1 FE-SEM | 第65-66页 |
5.2.2 XRD | 第66-67页 |
5.2.3 光学透过图 | 第67-68页 |
5.3 掺钨量对薄膜形貌的影响 | 第68-69页 |
5.4 掺钨量对薄膜物相的影响 | 第69-70页 |
5.5 掺钨量对薄膜光学性能的影响 | 第70-71页 |
5.6 掺钨量对薄膜相变温度的影响 | 第71-73页 |
5.7 本章小结 | 第73-74页 |
第六章 结论及展望 | 第74-76页 |
6.1 结论 | 第74-75页 |
6.2 展望 | 第75-76页 |
致谢 | 第76-77页 |
参考文献 | 第77-82页 |
攻读学位期间获得的科研成果 | 第82页 |