| 摘要 | 第5-6页 |
| ABSTRACT | 第6-7页 |
| 第一章 绪论 | 第11-25页 |
| 1.1 引言 | 第11-12页 |
| 1.2 半导体光催化原理 | 第12-13页 |
| 1.3 半导体光催化的应用 | 第13-16页 |
| 1.3.1 光催化氧化分解污染物 | 第13-14页 |
| 1.3.2 光催化CO_2还原 | 第14-15页 |
| 1.3.3 光催化分解水制氢 | 第15-16页 |
| 1.4 提高光催化活性的常用方法 | 第16-20页 |
| 1.4.1 染料敏化 | 第16-17页 |
| 1.4.2 贵金属沉积 | 第17-18页 |
| 1.4.3 半导体复合 | 第18-20页 |
| 1.5 g-C_3N_4光催化材料的研究进展 | 第20-21页 |
| 1.6 Bi_2O_3光催化材料的研究进展 | 第21-22页 |
| 1.7 TiO_2光催化材料的研究进展 | 第22-23页 |
| 1.8 选题依据及主要研究内容 | 第23-25页 |
| 第二章 实验及材料表征方法 | 第25-33页 |
| 2.1 实验试剂与实验仪器 | 第25-26页 |
| 2.1.1 实验试剂 | 第25页 |
| 2.1.2 实验仪器 | 第25-26页 |
| 2.3 光催化材料的制备 | 第26-27页 |
| 2.3.1 高温煅烧法制备石墨相氮化碳(g-C_3N_4) | 第26-27页 |
| 2.3.2 原位锻烧法制备Bi2O_3/g-C_3N_4复合材料 | 第27页 |
| 2.3.3 浸渍法和高温煅烧法制备Bi203-QDs-TiO_2 | 第27页 |
| 2.4 光催化材料的表征方法 | 第27-29页 |
| 2.4.1 粉末X射线衍射分析(XRD) | 第27-28页 |
| 2.4.2 场发射扫描电子显微镜(SEM)和透射电子显微镜(TEM) | 第28页 |
| 2.4.3 紫外-可见漫反射光谱(UV-Vis DRS) | 第28页 |
| 2.4.4 紫外-可见光分光光度计(UV-mini1240) | 第28页 |
| 2.4.5 荧光光谱(PL) | 第28-29页 |
| 2.4.6 X射线光电子能谱分析(XPS) | 第29页 |
| 2.4.7 氮气吸附-脱附分析(BET) | 第29页 |
| 2.4.8 热重-差热分析(TG-DTA) | 第29页 |
| 2.5 光催化活性分析 | 第29-33页 |
| 2.5.1 溶液配置 | 第29-30页 |
| 2.5.2 实验方法 | 第30-31页 |
| 2.5.3 光催化降解动力学拟合 | 第31-33页 |
| 第三章 Z型Bi_2O_3/g-C_3N_4复合材料的制备及其光催化降解亚甲基蓝性能的分析 | 第33-45页 |
| 3.1 前言 | 第33页 |
| 3.2 结果与讨论 | 第33-43页 |
| 3.2.1 物相分析 | 第33-34页 |
| 3.2.2 化学性质分析 | 第34-36页 |
| 3.2.3 形貌分析 | 第36-37页 |
| 3.2.4 光学性能分析 | 第37-38页 |
| 3.2.5 物理性能分析 | 第38-39页 |
| 3.2.6 光催化性能测试 | 第39-40页 |
| 3.2.7 机理探讨 | 第40-43页 |
| 3.3 本章小结 | 第43-45页 |
| 第四章 Bi2O_3-QDs-TiO_2复合材料的制备及其光催化产氢性能的分析 | 第45-53页 |
| 4.1 前言 | 第45页 |
| 4.2 结果与讨论 | 第45-51页 |
| 4.2.1 物相分析 | 第45-46页 |
| 4.2.2 化学性质分析 | 第46-47页 |
| 4.2.3 形貌分析 | 第47页 |
| 4.2.4 光学性能分析 | 第47-48页 |
| 4.2.5 物理性能分析 | 第48-49页 |
| 4.2.6 光催化性能测试 | 第49-50页 |
| 4.2.7 机理探讨 | 第50-51页 |
| 4.3 本章小结 | 第51-53页 |
| 结论与展望 | 第53-55页 |
| 结论 | 第53页 |
| 创新点 | 第53-54页 |
| 进一步的研究方向 | 第54-55页 |
| 参考文献 | 第55-65页 |
| 致谢 | 第65-67页 |
| 附录A 攻读硕士期间发表的论文目录 | 第67页 |
