| 中文摘要 | 第3-4页 |
| Abstract | 第4-5页 |
| 第一章 绪论 | 第8-13页 |
| 1.1 金属磁性多层膜的研究和应用 | 第8-9页 |
| 1.2 沉积成膜的分子动力学模拟现状 | 第9-11页 |
| 1.3 研究目的 | 第11-13页 |
| 第二章 分子动力学模拟基础知识 | 第13-26页 |
| 2.1 分子动力学方法基本原理 | 第13-14页 |
| 2.2 势函数 | 第14-18页 |
| 2.2.1 对势 | 第14-15页 |
| 2.2.2 多体势 | 第15-18页 |
| 2.3 牛顿运动方程的数值求解 | 第18-20页 |
| 2.4 系综的描述 | 第20-24页 |
| 2.4.1 微正则系综 | 第21页 |
| 2.4.2 正则系综 | 第21-24页 |
| 2.5 周期性边界条件 | 第24-26页 |
| 第三章 团簇沉积成膜分子动力学模拟程序的实现 | 第26-36页 |
| 3.1 程序流程 | 第26-28页 |
| 3.2 设定程序的控制参数 | 第28-29页 |
| 3.2.1 时间步长 | 第28页 |
| 3.2.2 团簇沉积率 | 第28-29页 |
| 3.3 初始条件 | 第29-31页 |
| 3.3.1 初始位置 | 第29-31页 |
| 3.3.2 初始速度 | 第31页 |
| 3.4 原子间相互作用力的计算及优化 | 第31-33页 |
| 3.4.1 原子间相互作用力的计算 | 第31-32页 |
| 3.4.2 原子间相互作用力计算的优化方法 | 第32-33页 |
| 3.5 模拟结果表征量 | 第33-36页 |
| 第四章 Cu_(13)团簇在Fe(001)表面沉积成膜的分子动力学模拟 | 第36-50页 |
| 4.1 分子动力学模拟模型 | 第36-37页 |
| 4.2 模拟结果分析与讨论 | 第37-49页 |
| 4.2.1 薄膜生长方式 | 第37-40页 |
| 4.2.2 薄膜外延度 | 第40-42页 |
| 4.2.3 薄膜表面粗糙度 | 第42-44页 |
| 4.2.4 薄膜内缺陷分布 | 第44-45页 |
| 4.2.5 薄膜结合强度 | 第45-47页 |
| 4.2.6 界面混合程度 | 第47-49页 |
| 4.3 本章小结 | 第49-50页 |
| 第五章 总结与展望 | 第50-52页 |
| 5.1 本文总结 | 第50-51页 |
| 5.2 工作展望 | 第51-52页 |
| 参考文献 | 第52-57页 |
| 在学期间的研究成果 | 第57-58页 |
| 致谢 | 第58页 |