摘要 | 第4-6页 |
abstract | 第6-7页 |
第一章 绪论 | 第11-21页 |
1.1 表面工程概述 | 第11-12页 |
1.2 TiN多层薄膜研究现状 | 第12-15页 |
1.2.1 多层薄膜的硬化机理 | 第12-13页 |
1.2.2 TiN多层薄膜的力学性能研究进展 | 第13-15页 |
1.3 纳米压痕技术 | 第15-18页 |
1.3.1 纳米压痕测试原理 | 第15-17页 |
1.3.2 纳米压痕技术的应用现状 | 第17-18页 |
1.4 课题来源和研究背景 | 第18-21页 |
1.4.1 课题来源 | 第18页 |
1.4.2 课题的研究背景 | 第18-19页 |
1.4.3 课题的研究内容 | 第19-21页 |
第二章 试验设备及试验方法 | 第21-31页 |
2.1 试验材料 | 第21页 |
2.2 磁控溅射技术及设备 | 第21-23页 |
2.2.1 磁控溅射原理 | 第21-22页 |
2.2.2 磁控溅射设备 | 第22-23页 |
2.3 微观分析设备 | 第23-26页 |
2.3.1 扫描电子显微镜(SEM) | 第23页 |
2.3.2 原子力显微镜(AFM) | 第23-24页 |
2.3.3 透射电子显微镜(TEM) | 第24-25页 |
2.3.4 X射线衍射仪(XRD) | 第25页 |
2.3.5 X射线光电子能谱(XPS) | 第25-26页 |
2.4 力学性能测试设备 | 第26-29页 |
2.4.1 纳米力学测试系统 | 第26-29页 |
2.4.2 电子薄膜应力分析仪 | 第29页 |
2.5 本章小结 | 第29-31页 |
第三章 薄膜的制备及表征 | 第31-41页 |
3.1 前言 | 第31页 |
3.2 TiN/CrN多层薄膜的制备 | 第31-35页 |
3.2.1 溅射功率对单层TiN,CrN薄膜沉积速率的影响 | 第31-32页 |
3.2.2 溅射功率对单层TiN,CrN薄膜表面形貌和相结构的影响 | 第32-33页 |
3.2.3 溅射功率对单层TiN,CrN薄膜力学性能的影响 | 第33-34页 |
3.2.4 多层薄膜沉积参数的设定 | 第34-35页 |
3.3 TiN/CrN多层薄膜微观结构的表征 | 第35-40页 |
3.3.1 调制周期对TiN/CrN多层薄膜表面形貌的影响 | 第35-36页 |
3.3.2 调制周期对TiN/CrN多层薄膜相结构的影响 | 第36-38页 |
3.3.3 调制周期对TiN/CrN多层薄膜微观结构的影响 | 第38-40页 |
3.4 本章小结 | 第40-41页 |
第四章 TiN/CrN多层薄膜的力学性能研究 | 第41-55页 |
4.1 前言 | 第41页 |
4.2 薄膜的基本力学参数测试 | 第41-45页 |
4.2.1 硬度和弹性模量 | 第41-43页 |
4.2.2 薄膜的残余应力 | 第43-45页 |
4.3 薄膜的抗断裂性能 | 第45-48页 |
4.3.1 载荷对薄膜抗断裂性能的影响 | 第45-46页 |
4.3.2 基于纳米压痕法的断裂韧性的计算及校正 | 第46-48页 |
4.4 薄膜的抗冲击疲劳性能 | 第48-51页 |
4.4.1 纳米冲击测试薄膜抗冲击疲劳性能 | 第48-49页 |
4.4.2 薄膜的疲劳损伤裂纹扩展机制 | 第49-51页 |
4.5 薄膜的高温力学性能 | 第51-53页 |
4.5.1 高温纳米压痕仪测试薄膜高温力学性能 | 第51-52页 |
4.5.2 温度对薄膜性能影响机制的研究 | 第52-53页 |
4.6 本章小结 | 第53-55页 |
第五章 TiN/CrN多层薄膜的强韧化机理研究 | 第55-67页 |
5.1 前言 | 第55页 |
5.2 调制周期对薄膜力学性能的影响 | 第55-62页 |
5.2.1 调制周期对薄膜硬度的影响 | 第55-56页 |
5.2.2 调制周期对薄膜抗断裂性能的影响 | 第56-60页 |
5.2.3 调制周期对薄膜抗冲击疲劳性能的影响 | 第60-61页 |
5.2.4 调制周期对薄膜高温力学性能的影响 | 第61-62页 |
5.3 多层薄膜强化机理的研究 | 第62-64页 |
5.3.1 单层薄膜与多层薄膜微观结构对比分析 | 第62-64页 |
5.3.2 残余应力对薄膜力学性能影响机制 | 第64页 |
5.4 本章小结 | 第64-67页 |
第六章 主要结论及创新点 | 第67-71页 |
6.1 主要结论 | 第67-68页 |
6.2 主要创新点 | 第68-71页 |
参考文献 | 第71-79页 |
攻读硕士学位期间取得的相关科研成果 | 第79-81页 |
致谢 | 第81页 |