基于原子层沉积的氧化铝纳米薄膜低温制备及其性能研究
| 摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5-6页 |
| 1 绪论 | 第9-17页 |
| 1.1 柔性电子发展概述 | 第9-10页 |
| 1.2 柔性电子器件失效机理 | 第10-11页 |
| 1.3 柔性电子封装研究 | 第11-12页 |
| 1.4 原子层沉积概述 | 第12-15页 |
| 1.5 课题的意义及主要论文工作 | 第15-17页 |
| 2 管流式原子层沉积实验设备 | 第17-28页 |
| 2.1 管流式原子层沉积实验设备 | 第17-21页 |
| 2.2 不同沉积腔体长径比实验 | 第21-23页 |
| 2.3 不同沉积腔体长径比仿真分析 | 第23-26页 |
| 2.4 实验与仿真数据对比分析 | 第26-27页 |
| 2.5 本章小结 | 第27-28页 |
| 3 低温无机薄膜原子层沉积工艺及性能研究 | 第28-42页 |
| 3.1 薄膜沉积速率在高低温的变化规律研究 | 第28-30页 |
| 3.2 低温原子层沉积工艺研究 | 第30-32页 |
| 3.3 薄膜性能表征及工艺对薄膜性能影响 | 第32-36页 |
| 3.4 柔性透明基底薄膜沉积厚度测量 | 第36-37页 |
| 3.5 柔性基底薄膜光学性能 | 第37-38页 |
| 3.6 纳米压痕薄膜沉积表面力学性能分析 | 第38-41页 |
| 3.7 小结 | 第41-42页 |
| 4 质谱法测气体渗透率设备及薄膜水氧渗透研究 | 第42-56页 |
| 4.1 质谱法测量材料气体渗透率的原理 | 第42-47页 |
| 4.2 质谱法测量材料气体渗透率的平台设计 | 第47-49页 |
| 4.3 薄膜渗透率测量的实验研究 | 第49-53页 |
| 4.4 测试数据分析与校准 | 第53-55页 |
| 4.5 本章小结 | 第55-56页 |
| 5 总结与展望 | 第56-58页 |
| 5.1 全文总结 | 第56-57页 |
| 5.2 展望 | 第57-58页 |
| 致谢 | 第58-59页 |
| 参考文献 | 第59-65页 |
| 附录1 攻读硕士学位期间发表的论文与专利 | 第65页 |
