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应用磁控溅射技术在Sa、GaN衬底上制备ε-Fe2~3N薄膜及其特性研究

摘要第4-5页
abstract第5-6页
第一章 绪论第8-19页
    1.1 自旋电子学简介第8-13页
        1.1.1 磁性材料基本特性第9-11页
        1.1.2 自旋电子学器件第11-13页
    1.2 Fe-N化合物的基本特性第13-18页
        1.2.1 Fe-N化合物第13-14页
        1.2.2 ε-Fe_3N基本特性第14-16页
        1.2.3 γ'-Fe_4N基本特性第16-18页
    1.3 本论文研究内容第18-19页
第二章 不同温度下制备的Fe-N薄膜特性研究第19-29页
    2.1 样品的制备方法第19-21页
        2.1.1 磁控溅射技术第19-20页
        2.1.2 其他制备方法第20-21页
    2.2 样品的制备第21-23页
    2.3 Fe-N薄膜样品的物相组成第23-28页
    2.4 本章小结第28-29页
第三章 Sa、GaN衬底上制备ε-Fe_(2~3)N薄膜特性研究第29-44页
    3.1 Sa衬底上制备ε-Fe_(2~3)N薄膜特性研究第29-39页
        3.1.1 样品的制备第29页
        3.1.2 ε-Fe_(2~3)N薄膜的微观特性第29-32页
        3.1.3 ε-Fe_(2~3)N薄膜的表面特性第32-34页
        3.1.4 ε-Fe_(2~3)N薄膜的组份特性第34-38页
        3.1.5 ε-Fe_(2~3)N薄膜的磁学特性第38-39页
    3.2 GaN衬底上制备ε-Fe_(2~3)N薄膜特性研究第39-42页
        3.2.1 样品的制备第39-40页
        3.2.2 ε-Fe_(2~3)N薄膜的微观结构第40-41页
        3.2.3 ε-Fe_(2~3)N薄膜的表面特性第41-42页
    3.3 在Sa、GaN上制备ε-Fe_(2~3)N薄膜的对比研究第42页
    3.4 本章小结第42-44页
第四章 总结与展望第44-46页
参考文献第46-49页
附录1 攻读硕士学位期间撰写的论文第49-50页
附录2 攻读硕士学位期间参加的科研项目第50-51页
致谢第51页

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