| 摘要 | 第3-5页 |
| Abstract | 第5-6页 |
| 第1章 绪论 | 第10-23页 |
| 1.1 拉曼散射的基本原理 | 第10-13页 |
| 1.1.1 经典电磁场理论 | 第10-11页 |
| 1.1.2 量子理论 | 第11-12页 |
| 1.1.3 拉曼光谱的应用和不足 | 第12-13页 |
| 1.2 表面增强拉曼散射简介 | 第13-14页 |
| 1.3 SERS增强机理 | 第14-16页 |
| 1.3.1 SERS物理增强机理 | 第14-15页 |
| 1.3.2 SERS化学增强机理 | 第15-16页 |
| 1.4 SERS活性基底的制备及研究现状 | 第16-22页 |
| 1.4.1 贵金属修饰半导体SERS基底 | 第16-18页 |
| 1.4.2 贵金属溶胶SERS基底 | 第18-21页 |
| 1.4.3 自组装纳米粒子SERS基底 | 第21-22页 |
| 1.5 本文的主要内容及研究意义 | 第22-23页 |
| 第2章 硅基金字塔衬底的制备 | 第23-44页 |
| 2.1 引言 | 第23页 |
| 2.2 试剂和仪器 | 第23-24页 |
| 2.2.1 试剂 | 第23-24页 |
| 2.2.2 仪器 | 第24页 |
| 2.3 实验设计方案和制备方法 | 第24-28页 |
| 2.3.1 实验设计方案 | 第24-26页 |
| 2.3.2 制备机理 | 第26-27页 |
| 2.3.3 硅基金字塔衬底的制备方法 | 第27-28页 |
| 2.4 硅基金字塔衬底的形貌分析 | 第28-43页 |
| 2.4.1 硅酸钾对单晶硅表面微结构的影响 | 第28-32页 |
| 2.4.2 反应温度对单晶硅表面微结构的影响 | 第32-37页 |
| 2.4.3 时间对单晶硅表面微结构的影响 | 第37-41页 |
| 2.4.4 碳酸钾浓度对单晶硅表面微结构的影响 | 第41-43页 |
| 2.5 本章小结 | 第43-44页 |
| 第3章 溅射法制备硅基金纳米活性基底及SERS研究 | 第44-52页 |
| 3.1 引言 | 第44-45页 |
| 3.2 实验仪器 | 第45-46页 |
| 3.3 实验结果分析 | 第46-51页 |
| 3.3.1 形貌分析 | 第46-47页 |
| 3.3.2 光学性质分析 | 第47-48页 |
| 3.3.3 结晶紫的SERS光谱分析 | 第48-51页 |
| 3.4 本章小结 | 第51-52页 |
| 第4章 化学还原法-自组装硅基金纳米活性基底及SERS研究 | 第52-59页 |
| 4.1 引言 | 第52-53页 |
| 4.2 试剂 | 第53页 |
| 4.3 实验过程 | 第53-54页 |
| 4.4 实验结果分析 | 第54-58页 |
| 4.4.1 光学性质分析 | 第54-55页 |
| 4.4.2 形貌分析 | 第55-56页 |
| 4.4.3 结晶紫的SERS光谱分析 | 第56-58页 |
| 4.5 本章小结 | 第58-59页 |
| 第5章 结论与展望 | 第59-62页 |
| 5.1 结论 | 第59-61页 |
| 5.2 展望 | 第61-62页 |
| 参考文献 | 第62-67页 |
| 攻读硕士学位期间发表的论文情况 | 第67-68页 |
| 致谢 | 第68页 |