摘要 | 第5-7页 |
Abstract | 第7-8页 |
第1章 绪论 | 第12-27页 |
1.1 透明陶瓷概述 | 第12-14页 |
1.1.1 透明陶瓷的发展 | 第12-13页 |
1.1.2 透明陶瓷的分类及应用 | 第13-14页 |
1.2 YAG透明陶瓷 | 第14-18页 |
1.2.1 YAG的结构和性能 | 第14-15页 |
1.2.2 YAG单晶的合成及其局限性 | 第15-16页 |
1.2.3 YAG透明陶瓷的制备优势 | 第16-17页 |
1.2.4 YAG中的稀土元素掺杂 | 第17-18页 |
1.3 YAG透明陶瓷的制备方法 | 第18-24页 |
1.3.1 YAG粉体的合成工艺 | 第18-22页 |
1.3.2 YAG粉体的成型工艺 | 第22-23页 |
1.3.3 YAG透明陶瓷的烧结工艺 | 第23-24页 |
1.4 烧结助剂 | 第24-25页 |
1.5 该课题研究的内容和意义 | 第25-27页 |
第2章 实验材料及方法 | 第27-34页 |
2.1 实验原料 | 第27页 |
2.2 主要实验设备 | 第27-28页 |
2.3 实验流程 | 第28-31页 |
2.3.1 共沉淀法制备YAG粉体 | 第28-29页 |
2.3.2 粉体成型 | 第29页 |
2.3.3 坯体烧结 | 第29-30页 |
2.3.4 样品处理 | 第30-31页 |
2.4 性能表征 | 第31-34页 |
2.4.1 X射线衍射(XRD)分析 | 第31-32页 |
2.4.2 扫描电镜(SEM)分析 | 第32页 |
2.4.3 密度测试 | 第32页 |
2.4.4 热分析(TG/DTA) | 第32页 |
2.4.5 热膨胀(TMA)分析 | 第32-33页 |
2.4.6 透射电镜(TEM)分析 | 第33页 |
2.4.7 BET比表面积分析 | 第33页 |
2.4.8 等离子体发射光谱(ICP-AES)分析 | 第33-34页 |
第3章 二氧化硅助剂在YAG粉体及陶瓷制备中的影响机制研究 | 第34-51页 |
3.1 YAG粉体物相分析 | 第34-39页 |
3.1.1 二氧化硅的添加量对YAG粉体物相的影响 | 第35-38页 |
3.1.2 煅烧温度对YAG粉体物相的影响 | 第38-39页 |
3.2 比表面积分析 | 第39-40页 |
3.2.1 二氧化硅的添加量对粉体比表面积的影响 | 第39页 |
3.2.2 煅烧温度对粉体比表面积的影响 | 第39-40页 |
3.3 粉体形貌分析 | 第40-45页 |
3.3.1 二氧化硅的添加量量对粉体形貌和粒径的影响 | 第40-44页 |
3.3.2 煅烧温度对粉体形貌和粒径的影响 | 第44-45页 |
3.4 陶瓷密度分析 | 第45-48页 |
3.4.1 二氧化硅的添加量对YAG陶瓷密度的影响 | 第45-47页 |
3.4.2 煅烧温度对致密化的影响 | 第47-48页 |
3.5 二氧化硅助剂对陶瓷显微组织的影响 | 第48-50页 |
3.6 本章小结 | 第50-51页 |
第4章 二氧化硅包覆YAG粉体及透明陶瓷的制备 | 第51-63页 |
4.1 问题的提出 | 第51页 |
4.2 实验过程 | 第51-52页 |
4.2.1 YAG粉体制备 | 第51页 |
4.2.2 SiO_2包覆YAG粉体 | 第51-52页 |
4.3 结果与讨论 | 第52-62页 |
4.3.1 煅烧温度的确定 | 第52-53页 |
4.3.2 二氧化硅的包覆量对YAG粉体物相的影响 | 第53-55页 |
4.3.3 TG-DTA分析 | 第55-56页 |
4.3.4 YAG粉体的形貌和粒径分析 | 第56-59页 |
4.3.5 TEM分析 | 第59页 |
4.3.6 二氧化硅包覆量对YAG粉体对粉体烧结性能的影响 | 第59-61页 |
4.3.7 透过率分析 | 第61-62页 |
4.4 本章小结 | 第62-63页 |
第5章 成分偏析对Yb:YAG粉体和陶瓷物相及显微组织的影响机制研究 | 第63-72页 |
5.1 引言 | 第63页 |
5.2 实验过程 | 第63-64页 |
5.3 结果与讨论 | 第64-71页 |
5.3.1 成分偏析对YAG粉体物相的影响 | 第64-67页 |
5.3.2 成分偏析对YAG陶瓷显微结构的影响 | 第67-70页 |
5.3.3 密度分析 | 第70-71页 |
5.4 本章小结 | 第71-72页 |
第6章 结论 | 第72-73页 |
参考文献 | 第73-79页 |
致谢 | 第79页 |