结晶度对三氧化钨薄膜电致变色性能影响的研究
| 摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5-6页 |
| 第1章 绪论 | 第10-26页 |
| 1.1 课题背景和意义 | 第10页 |
| 1.2 电致变色材料分类 | 第10-17页 |
| 1.2.1 过渡金属氧化物 | 第11-12页 |
| 1.2.2 导电聚合物类 | 第12-15页 |
| 1.2.3 其他电致变色材料 | 第15-17页 |
| 1.3 三氧化钨电致变色材料的研究进展 | 第17-24页 |
| 1.3.1 0D纳米结构 | 第18-19页 |
| 1.3.2 1D纳米结构 | 第19-21页 |
| 1.3.3 2D纳米结构 | 第21-23页 |
| 1.3.4 3D纳米结构 | 第23-24页 |
| 1.4 课题研究目的及主要研究内容 | 第24-26页 |
| 第2章 实验材料及表征 | 第26-31页 |
| 2.1 实验仪器和设备 | 第26页 |
| 2.2 实验试剂 | 第26页 |
| 2.3 材料表征 | 第26-27页 |
| 2.3.1 SEM测试 | 第26-27页 |
| 2.3.2 XRD测试 | 第27页 |
| 2.3.3 TEM测试 | 第27页 |
| 2.4 三氧化钨薄膜的电致变色性能表征 | 第27-31页 |
| 2.4.1 循环伏安测试 | 第27页 |
| 2.4.2 透过率测试 | 第27-28页 |
| 2.4.3 着色效率测试 | 第28-29页 |
| 2.4.4 响应时间测试 | 第29页 |
| 2.4.5 循环稳定性能测试 | 第29页 |
| 2.4.6 离子扩散系数测试 | 第29-30页 |
| 2.4.7 色度分析 | 第30-31页 |
| 第3章 电沉积法制备非晶三氧化钨薄膜 | 第31-45页 |
| 3.1 三氧化钨薄膜的制备 | 第31页 |
| 3.1.1 ITO基底清洗 | 第31页 |
| 3.1.2 电沉积制备三氧化钨薄膜 | 第31页 |
| 3.2 三氧化钨薄膜的结构形貌分析 | 第31-33页 |
| 3.2.1 结构表征 | 第31-32页 |
| 3.2.2 形貌表征 | 第32-33页 |
| 3.3 沉积时间对电致变色性能的影响 | 第33-43页 |
| 3.3.1 光学调制范围 | 第35-36页 |
| 3.3.2 响应时间 | 第36-40页 |
| 3.3.3 着色效率 | 第40页 |
| 3.3.4 循环稳定性 | 第40-41页 |
| 3.3.5 红外发射率 | 第41-43页 |
| 3.4 本章小结 | 第43-45页 |
| 第4章 结晶度对电致变色影响的研究 | 第45-64页 |
| 4.1 不同结晶度三氧化钨的制备与表征 | 第45-49页 |
| 4.1.1 三氧化钨粒子的制备 | 第45-46页 |
| 4.1.2 三氧化钨粒子形貌表征 | 第46-47页 |
| 4.1.3 三氧化钨粒子成分分析 | 第47页 |
| 4.1.4 三氧化钨的结晶度计算 | 第47-49页 |
| 4.2 不同结晶度三氧化钨薄膜的制备和表征 | 第49-51页 |
| 4.2.1 三氧化钨薄膜的制备 | 第49-50页 |
| 4.2.2 三氧化钨薄膜的形貌表征 | 第50-51页 |
| 4.3 结晶度对薄膜电致变色性能影响的研究 | 第51-62页 |
| 4.3.1 循环伏安特性 | 第51-53页 |
| 4.3.2 光学调制范围 | 第53-54页 |
| 4.3.3 响应时间 | 第54-58页 |
| 4.3.4 循环稳定性 | 第58-60页 |
| 4.3.5 着色效率 | 第60-62页 |
| 4.3.6 品质因子 | 第62页 |
| 4.4 本章小结 | 第62-64页 |
| 第5章 电致变色器件组装和性能测试 | 第64-70页 |
| 5.1 电致变色器件的结构 | 第64-65页 |
| 5.2 电致变色性能测试 | 第65-69页 |
| 5.2.1 光谱透过率 | 第65-66页 |
| 5.2.2 色度分析 | 第66-67页 |
| 5.2.3 响应时间 | 第67-68页 |
| 5.2.4 循环稳定性 | 第68-69页 |
| 5.3 本章小结 | 第69-70页 |
| 结论 | 第70-71页 |
| 参考文献 | 第71-78页 |
| 攻读硕士学位期间发表的论文及其它成果 | 第78-80页 |
| 致谢 | 第80页 |
