| 摘要 | 第3-5页 |
| abstract | 第5-6页 |
| 第1章 绪论 | 第10-23页 |
| 1.1 前言 | 第10页 |
| 1.2 低碳烃简述 | 第10-12页 |
| 1.3 零污染能源氢能 | 第12-13页 |
| 1.4 甲烷制氢应用 | 第13页 |
| 1.5 催化甲烷干重整研究 | 第13-18页 |
| 1.5.1 DRM反应机理及积碳生成原理探究 | 第14-17页 |
| 1.5.2 甲烷干气重整过程中活性组分概述 | 第17-18页 |
| 1.5.3 甲烷干气重整催化剂载体性能分析 | 第18页 |
| 1.6 核壳型催化剂研究 | 第18-19页 |
| 1.7 等离子体在催化领域现况 | 第19-20页 |
| 1.8 本文研究内容及意义 | 第20-23页 |
| 第2章 实验方法及数据 | 第23-29页 |
| 2.1 化学原料与设备 | 第23-25页 |
| 2.1.1 实验中主要试剂列表 | 第23页 |
| 2.1.2 实验气体 | 第23-24页 |
| 2.1.3 实验仪器 | 第24-25页 |
| 2.2 甲烷干气重整活性装置评价 | 第25-26页 |
| 2.3 催化剂表征介绍 | 第26-29页 |
| 2.3.1 X射线粉末衍射(XRD) | 第26页 |
| 2.3.2 比表面及孔径分析(ASAP-2020) | 第26页 |
| 2.3.3 程序升温还原(H2-TPR) | 第26-27页 |
| 2.3.4 程序升温脱附(TPD) | 第27页 |
| 2.3.5 热重-差示扫描量热法(TGA-DSC) | 第27页 |
| 2.3.6 透射电镜(TEM) | 第27-28页 |
| 2.3.7 拉曼光谱(Raman) | 第28页 |
| 2.3.8 X射线光电子能谱(XPS) | 第28页 |
| 2.3.9 电感耦合等离子体原子发射光谱(ICP-AES) | 第28-29页 |
| 第3章 合成高活性高稳定性的Ni@Al_2O_3催化剂用于甲烷干气重整 | 第29-43页 |
| 3.1 引言 | 第29页 |
| 3.2 催化剂的制备 | 第29-30页 |
| 3.2.1 12%Ni@Al_2O_3催化剂的制备： | 第29-30页 |
| 3.2.2 Ni/Al_2O_3催化剂的制备 | 第30页 |
| 3.3 结果与讨论 | 第30-42页 |
| 3.3.1 还原后催化剂的形貌尺寸分析 | 第30-32页 |
| 3.3.2 催化剂的活性和稳定性测试 | 第32-34页 |
| 3.3.3 稳定测试后催化剂的物理化学性质分析 | 第34-35页 |
| 3.3.4 催化样品晶相组成分析 | 第35-38页 |
| 3.3.5 稳定测试后催化剂的积碳分析 | 第38-39页 |
| 3.3.6 新鲜催化剂的孔道结构和比表面分析 | 第39-40页 |
| 3.3.7 新鲜催化剂H2-TPR表征 | 第40-41页 |
| 3.3.8 新鲜催化剂XPS表征 | 第41-42页 |
| 3.4 本章小结 | 第42-43页 |
| 第4章 等离子体处理Ni@Al_2O_3催化剂用于甲烷干气重整 | 第43-56页 |
| 4.1 引言 | 第43页 |
| 4.2 Ni-Al_2O_3催化剂的制备 | 第43-45页 |
| 4.2.1 5%Ni@Al_2O_3催化剂的制备 | 第43-44页 |
| 4.2.2 5%Ni/Al_2O_3催化剂的制备 | 第44页 |
| 4.2.3 等离子体处理催化剂 | 第44-45页 |
| 4.2.4 未经等离子体处理催化剂 | 第45页 |
| 4.3 结果讨论 | 第45-55页 |
| 4.3.1 催化剂性能测试 | 第45-46页 |
| 4.3.2 催化剂稳定性测试 | 第46-48页 |
| 4.3.3 反应后催化剂积碳分析 | 第48-51页 |
| 4.3.4 催化剂XRD表征 | 第51-53页 |
| 4.3.5 催化剂的还原性能测定 | 第53-54页 |
| 4.3.6 低温等离子体处理催化剂 | 第54-55页 |
| 4.4 本章小结 | 第55-56页 |
| 第5章 结论与展望 | 第56-58页 |
| 5.1 结论 | 第56-57页 |
| 5.2 展望 | 第57-58页 |
| 致谢 | 第58-59页 |
| 参考文献 | 第59-66页 |
| 攻读学位期间的研究成果 | 第66页 |
