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氩离子轰击钛酸锶表面的持续光电流现象研究

摘要第5-7页
abstract第7-8页
第一章 绪论第11-17页
    1.1 引言第11页
    1.2 SrTiO_3的基本性质第11-12页
    1.3 表面改性方法及导电研究第12-13页
    1.4 SrTiO_3的光电流现象研究第13-15页
    1.5 本课题的研究意义第15-17页
第二章 实验与测试方法第17-36页
    2.1 引言第17页
    2.2 SrTiO_3表面导电层的制备第17-22页
        2.2.1 光刻技术第17-19页
        2.2.2 Ar~+轰击技术第19-21页
        2.2.3 磁控溅射技术第21-22页
    2.3 表面分析第22-23页
    2.4 霍尔效应测试第23-26页
    2.5 电学性质测试第26-29页
        2.5.1 伏安特性曲线测试第26-29页
        2.5.2 场效应测试第29页
    2.6 光电流测试第29-35页
        2.6.1 本征光电导与杂质光电导第29-32页
        2.6.2 光电流测试第32-34页
        2.6.3 光电流衰减第34-35页
    2.7 本章小结第35-36页
第三章 Ar~+轰击SrTiO_3单晶的表面导电层的电学性质第36-45页
    3.1 引言第36页
    3.2 Ar~+轰击SrTiO_3单晶的工艺研究第36-37页
    3.3 Ar~+轰击SrTiO_3单晶的表面导电层第37-38页
    3.4 SrTiO_3表面导电层的输运特性第38-41页
    3.5 SrTiO_3的电学性质第41-44页
        3.5.1 伏安特性曲线第41-42页
        3.5.2 场效应第42-44页
    3.6 本章小结第44-45页
第四章 Ar~+轰击SrTiO_3表面导电层的光电流衰减现象第45-65页
    4.1 引言第45页
    4.2 SrTiO_3表面导电层的光电流响应特性第45-49页
    4.3 持续光电流衰减的波长依赖性第49-52页
    4.4 持续光电流衰减的温度依赖性与陷阱缺陷的关系第52-60页
    4.5 背栅电场对持续光电流衰减的影响规律第60-63页
    4.6 本章小结第63-65页
第五章 全文总结与展望第65-67页
致谢第67-68页
参考文献第68-74页
攻读硕士学位期间的研究成果第74页

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