摘要 | 第5-7页 |
abstract | 第7-8页 |
第一章 绪论 | 第11-17页 |
1.1 引言 | 第11页 |
1.2 SrTiO_3的基本性质 | 第11-12页 |
1.3 表面改性方法及导电研究 | 第12-13页 |
1.4 SrTiO_3的光电流现象研究 | 第13-15页 |
1.5 本课题的研究意义 | 第15-17页 |
第二章 实验与测试方法 | 第17-36页 |
2.1 引言 | 第17页 |
2.2 SrTiO_3表面导电层的制备 | 第17-22页 |
2.2.1 光刻技术 | 第17-19页 |
2.2.2 Ar~+轰击技术 | 第19-21页 |
2.2.3 磁控溅射技术 | 第21-22页 |
2.3 表面分析 | 第22-23页 |
2.4 霍尔效应测试 | 第23-26页 |
2.5 电学性质测试 | 第26-29页 |
2.5.1 伏安特性曲线测试 | 第26-29页 |
2.5.2 场效应测试 | 第29页 |
2.6 光电流测试 | 第29-35页 |
2.6.1 本征光电导与杂质光电导 | 第29-32页 |
2.6.2 光电流测试 | 第32-34页 |
2.6.3 光电流衰减 | 第34-35页 |
2.7 本章小结 | 第35-36页 |
第三章 Ar~+轰击SrTiO_3单晶的表面导电层的电学性质 | 第36-45页 |
3.1 引言 | 第36页 |
3.2 Ar~+轰击SrTiO_3单晶的工艺研究 | 第36-37页 |
3.3 Ar~+轰击SrTiO_3单晶的表面导电层 | 第37-38页 |
3.4 SrTiO_3表面导电层的输运特性 | 第38-41页 |
3.5 SrTiO_3的电学性质 | 第41-44页 |
3.5.1 伏安特性曲线 | 第41-42页 |
3.5.2 场效应 | 第42-44页 |
3.6 本章小结 | 第44-45页 |
第四章 Ar~+轰击SrTiO_3表面导电层的光电流衰减现象 | 第45-65页 |
4.1 引言 | 第45页 |
4.2 SrTiO_3表面导电层的光电流响应特性 | 第45-49页 |
4.3 持续光电流衰减的波长依赖性 | 第49-52页 |
4.4 持续光电流衰减的温度依赖性与陷阱缺陷的关系 | 第52-60页 |
4.5 背栅电场对持续光电流衰减的影响规律 | 第60-63页 |
4.6 本章小结 | 第63-65页 |
第五章 全文总结与展望 | 第65-67页 |
致谢 | 第67-68页 |
参考文献 | 第68-74页 |
攻读硕士学位期间的研究成果 | 第74页 |