| 摘要 | 第5-7页 |
| ABSTRACT | 第7-8页 |
| 第一章 绪论 | 第12-25页 |
| 1.1 红外隐身技术概论 | 第12-13页 |
| 1.2 国内外研究现状 | 第13-14页 |
| 1.3 红外隐身的基本原理 | 第14-20页 |
| 1.3.1 红外辐射 | 第14页 |
| 1.3.2 红外隐身原理 | 第14-20页 |
| 1.3.2.1 目标辐射特性 | 第15页 |
| 1.3.2.2 红外探测器的探测特性 | 第15-16页 |
| 1.2.2.3 降低目标与背景的红外差异特性的方法 | 第16页 |
| 1.3.2.4 红外隐身技术手段 | 第16-17页 |
| 1.3.2.5 低发射率材料 | 第17-19页 |
| 1.3.2.6 红外发射率的影响因素 | 第19-20页 |
| 1.4 可见光隐身技术 | 第20-21页 |
| 1.4.1 可见光及其颜色 | 第20-21页 |
| 1.5 雷达隐身技术 | 第21-23页 |
| 1.5.1 铁氧体吸波材料及其吸波特性 | 第21-22页 |
| 1.5.2 尖晶石铁型氧体的晶体结构及其特征 | 第22-23页 |
| 1.5.3 铁氧体材料的磁损耗及对可见光隐身 | 第23页 |
| 1.6 本论文的主要工作 | 第23-25页 |
| 第二章 核壳结构复合粉体制备及表征分析方法 | 第25-33页 |
| 2.1 复合粉体的制备方法 | 第25-28页 |
| 2.1.1 表面修饰概述 | 第25页 |
| 2.1.2 核壳结构制备复合粉体的方法 | 第25-28页 |
| 2.1.2.1 沉淀法 | 第25-27页 |
| 2.1.2.2 水热法和溶剂热法 | 第27页 |
| 2.1.2.3 高能球磨法 | 第27-28页 |
| 2.2 基于铝包覆核壳结构粉体的研究 | 第28-29页 |
| 2.2.1 深色颜料包覆铝粉的设计 | 第28-29页 |
| 2.3 样品的表征方法 | 第29-30页 |
| 2.3.1 扫描电子显微镜 | 第29页 |
| 2.3.2 产物的相结构分析 | 第29-30页 |
| 2.4 产物的可见光和近红外测试 | 第30页 |
| 2.5 样品红外发射率测试 | 第30页 |
| 2.6 样品的红外透过率测试 | 第30-31页 |
| 2.7 样品颜色和明度值 | 第31页 |
| 2.8 样品的静磁性能测试 | 第31页 |
| 2.9 样品的介电常数磁导率的测量分析 | 第31-32页 |
| 2.10 本章小结 | 第32-33页 |
| 第三章 溶剂热法制备四氧化三铁 | 第33-40页 |
| 3.1 四氧化三铁材料的制备与表征 | 第33-34页 |
| 3.1.1 样品的制备 | 第33-34页 |
| 3.1.1.1 化学试剂 | 第33页 |
| 3.1.1.2 制备过程 | 第33页 |
| 3.1.1.3 实验机理分析 | 第33-34页 |
| 3.2 样品的表征 | 第34-39页 |
| 3.2.1 样品的物相分析 | 第34页 |
| 3.2.2 样品的红外透射光谱 | 第34-35页 |
| 3.2.3 样品的磁滞回线 | 第35-36页 |
| 3.2.4 铝粉及四氧化三铁的介电性能 | 第36-37页 |
| 3.2.5 四氧化三铁的磁导率谱 | 第37-38页 |
| 3.2.6 四氧化三铁的红外反射率谱及其明度值 | 第38-39页 |
| 3.2.7 四氧化三铁的可见光-近红外反射率谱 | 第39页 |
| 3.3 本章小结 | 第39-40页 |
| 第四章 前驱体制备条件对Al/Fe_3O_4包覆材料性能的影响 | 第40-64页 |
| 4.1 样品制备 | 第40页 |
| 4.2 实验过程 | 第40-41页 |
| 4.3 表征和测试 | 第41页 |
| 4.4 非均相沉淀法制备壳-核结构前驱体复合材料的机理分析 | 第41-45页 |
| 4.4.1 均相成核过程分析 | 第42-43页 |
| 4.4.2 非均相成核热力学分析 | 第43-45页 |
| 4.5 前驱体反应不同温度对最终产物性能的影响 | 第45-49页 |
| 4.5.1 样品物相分析 | 第46-47页 |
| 4.5.2 样品形貌 | 第47-48页 |
| 4.5.3 样品的红外发射率和明度值 | 第48-49页 |
| 4.5.4 样品的可见光-近红外反射光谱 | 第49页 |
| 4.6 不同盐碱比例的影响 | 第49-54页 |
| 4.6.1 产物的XRD分析 | 第50页 |
| 4.6.2 样品形貌 | 第50-53页 |
| 4.6.3 样品的红外发射率与明度值 | 第53页 |
| 4.6.4 样品的近红外反射率 | 第53-54页 |
| 4.7 包覆量的影响 | 第54-59页 |
| 4.7.1 产物的XRD谱图 | 第55页 |
| 4.7.2 样品形貌 | 第55-56页 |
| 4.7.3 样品红外光谱分析与明度值 | 第56-57页 |
| 4.7.4 样品的近红外反射光谱 | 第57-58页 |
| 4.7.5 样品的介电常数随包覆量的变化关系 | 第58-59页 |
| 4.7.6 包覆产物的静磁性能分析 | 第59页 |
| 4.8 反应浓度的影响 | 第59-61页 |
| 4.8.1 样品的红外发射率及可见光明度 | 第60-61页 |
| 4.8.2 样品的近红外反射光谱 | 第61页 |
| 4.9 不同转速的影响 | 第61-63页 |
| 4.9.1 样品的红外光谱图 | 第62-63页 |
| 4.10本章小结 | 第63-64页 |
| 第五章 晶粒生长对红外发射率的影响 | 第64-68页 |
| 5.1 样品的性能表征 | 第64-67页 |
| 5.1.1 样品的XRD分析 | 第64-65页 |
| 5.1.2 样品的红外光谱图 | 第65-66页 |
| 5.1.3 样品形貌 | 第66-67页 |
| 5.2 本章小结 | 第67-68页 |
| 第六章 结论与展望 | 第68-70页 |
| 6.1 结论 | 第68页 |
| 6.2 展望 | 第68-70页 |
| 致谢 | 第70-71页 |
| 参考文献 | 第71-74页 |
| 攻读硕士学位期间取得的成果 | 第74-75页 |
