| 摘要 | 第5-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 第一章 绪论 | 第11-25页 |
| 1.1 引言 | 第11页 |
| 1.2 CO_2的回收及其利用现状 | 第11-12页 |
| 1.3 甲醇的性质、用途和生产现状 | 第12-14页 |
| 1.3.1 甲醇的性质 | 第12-13页 |
| 1.3.2 甲醇的用途 | 第13页 |
| 1.3.3 甲醇的生产现状 | 第13-14页 |
| 1.4 CO_2加氢合成甲醇催化剂的研究现状 | 第14-22页 |
| 1.4.1 CuO/ZnO催化剂 | 第14-15页 |
| 1.4.2 助剂的影响 | 第15-17页 |
| 1.4.3 焙烧温度的影响 | 第17-18页 |
| 1.4.4 制备方法的影响 | 第18-19页 |
| 1.4.5 共沉淀法中其他因素的影响 | 第19-20页 |
| 1.4.6 反应机理 | 第20-21页 |
| 1.4.7 热力学分析 | 第21-22页 |
| 1.5 本课题的意义与研究内容 | 第22-25页 |
| 1.5.1 本课题的意义 | 第22-23页 |
| 1.5.2 主要研究内容 | 第23-25页 |
| 第二章 实验部分 | 第25-33页 |
| 2.1 试剂、原料及仪器 | 第25-26页 |
| 2.1.1 实验试剂 | 第25页 |
| 2.1.2 实验用气体 | 第25-26页 |
| 2.1.3 实验仪器 | 第26页 |
| 2.2 催化剂的制备 | 第26-27页 |
| 2.3 催化剂的催化活性评价 | 第27-29页 |
| 2.3.1 实验装置 | 第27页 |
| 2.3.2 实验操作步骤 | 第27-28页 |
| 2.3.3 产物分析 | 第28页 |
| 2.3.4 数据处理 | 第28-29页 |
| 2.4 催化剂的表征 | 第29-33页 |
| 2.4.1 热重(TG-DSC) | 第29页 |
| 2.4.2 X射线衍射(XRD) | 第29-30页 |
| 2.4.3 比表面积(BET) | 第30页 |
| 2.4.4 H_2程序升温还原(H_2-TPR) | 第30-31页 |
| 2.4.5 NH_3程序升温脱附(NH_3-TPD) | 第31页 |
| 2.4.6 CO_2程序升温脱附(CO_2-TPD) | 第31-32页 |
| 2.4.7 扫描电镜(SEM) | 第32-33页 |
| 第三章 助剂二氧化硅含量对CZZ催化剂性能的影响 | 第33-53页 |
| 3.1 引言 | 第33-34页 |
| 3.2 不同SiO_2含量的CZZ催化剂的表征 | 第34-43页 |
| 3.2.1 催化剂前驱体热重分析 | 第34-36页 |
| 3.2.2 XRD | 第36-38页 |
| 3.2.3 BET | 第38页 |
| 3.2.4 SEM | 第38-39页 |
| 3.2.5 H_2-TPR | 第39-41页 |
| 3.2.6 NH_3-TPD | 第41页 |
| 3.2.7 CO_2-TPD | 第41-43页 |
| 3.3 焙烧温度对CZZ/SiO_2催化剂性能的影响 | 第43-44页 |
| 3.4 不同焙烧温度的CZZ/SiO_2催化剂的表征 | 第44-50页 |
| 3.4.1 XRD | 第44-45页 |
| 3.4.2 SEM | 第45-46页 |
| 3.4.3 H_2-TPR | 第46-47页 |
| 3.4.4 NH_3-TPD | 第47-48页 |
| 3.4.5 CO_2-TPD | 第48-50页 |
| 3.5 SiO_2含量以及焙烧温度对CZZ催化剂催化活性的影响 | 第50-51页 |
| 3.6 本章小结 | 第51-53页 |
| 第四章 助剂二氧化硅含量对CZAZ催化剂性能的影响 | 第53-65页 |
| 4.1 引言 | 第53-54页 |
| 4.2 不同SiO_2含量的CZAZ催化剂的表征 | 第54-62页 |
| 4.2.1 催化剂前驱体热重分析 | 第54-56页 |
| 4.2.2 XRD | 第56-57页 |
| 4.2.3 BET | 第57-58页 |
| 4.2.4 SEM | 第58页 |
| 4.2.5 H_2-TPR | 第58-60页 |
| 4.2.6 NH_3-TPD | 第60-61页 |
| 4.2.7 CO_2-TPD | 第61-62页 |
| 4.3 SiO_2含量对CZAZ催化剂催化活性的影响 | 第62-63页 |
| 4.4 本章小结 | 第63-65页 |
| 第五章 总结与展望 | 第65-67页 |
| 5.1 研究总结 | 第65页 |
| 5.2 存在的不足 | 第65页 |
| 5.3 展望 | 第65-67页 |
| 致谢 | 第67-68页 |
| 参考文献 | 第68-76页 |
| 附录 | 第76页 |
