| 摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5-6页 |
| 第1章 绪论 | 第9-18页 |
| 1.1 课题背景 | 第9页 |
| 1.2 课题的研究目的及意义 | 第9-10页 |
| 1.3 国内外研究现状 | 第10-16页 |
| 1.3.1 硬盘结构及工作原理 | 第10-12页 |
| 1.3.2 DLC 薄膜国内外研究现状 | 第12-14页 |
| 1.3.3 掺杂 DLC 薄膜国内外研究现状 | 第14-15页 |
| 1.3.4 SiNx薄膜国内外研究现状 | 第15-16页 |
| 1.4 本论文研究内容 | 第16-18页 |
| 第2章 DLC 薄膜分子动力学建模及摩擦学特性研究 | 第18-39页 |
| 2.1 分子动力学仿真基本原理 | 第18-22页 |
| 2.1.1 分子动力学计算过程 | 第18-20页 |
| 2.1.2 仿真模拟势函数 | 第20-22页 |
| 2.2 基于 HAMR 热影响的 DLC 建模 | 第22-29页 |
| 2.2.1 DLC 薄膜建模概述 | 第22-23页 |
| 2.2.2 DLC 建模及结果分析 | 第23-29页 |
| 2.3 DLC 薄膜的摩擦学特性 | 第29-38页 |
| 2.3.1 温度对 DLC 结构的影响 | 第29-30页 |
| 2.3.2 温度对 DLC 薄膜摩擦特性的影响 | 第30-31页 |
| 2.3.3 载荷对 DLC 薄膜磨损的影响 | 第31-36页 |
| 2.3.4 基体材料对 DLC 薄膜摩擦力的影响 | 第36-38页 |
| 2.4 本章小结 | 第38-39页 |
| 第3章 Si 掺杂 DLC 薄膜摩擦学特性研究 | 第39-58页 |
| 3.1 不同 Si 原子含量 Si-DLC 薄膜摩擦学特性研究 | 第39-50页 |
| 3.1.1 不同 Si 原子含量 Si-DLC 薄膜的建模 | 第39-41页 |
| 3.1.2 Si 原子含量对 Si-DLC 薄膜力学特性的影响 | 第41-44页 |
| 3.1.3 Si 原子含量对 Si-DLC 薄膜摩擦特性的影响 | 第44-45页 |
| 3.1.4 Si 原子含量对 Si-DLC 薄膜磨损特性的影响 | 第45-50页 |
| 3.2 不同密度 Si-DLC 薄膜摩擦学特性研究 | 第50-57页 |
| 3.2.1 不同密度 Si-DLC 薄膜的建模 | 第50-51页 |
| 3.2.2 密度对 Si-DLC 薄膜的力学特性的影响 | 第51-52页 |
| 3.2.3 密度 Si-DLC 薄膜的摩擦特性的影响 | 第52-54页 |
| 3.2.4 密度对 Si-DLC 薄膜的磨损特性的影响 | 第54-57页 |
| 3.3 本章小结 | 第57-58页 |
| 第4章 氮化硅薄膜摩擦学特性研究 | 第58-72页 |
| 4.1 SixN 薄膜纳米摩擦分子动力学建模 | 第58-62页 |
| 4.1.1 描述 Si 与 N 原子的经验势函数 | 第58-60页 |
| 4.1.2 晶体β-Si_3N_4薄膜模型的建立 | 第60-61页 |
| 4.1.3 非晶态 SiNx薄膜模型的建立 | 第61-62页 |
| 4.2 晶体β-Si_3N_4薄膜摩擦学特性研究 | 第62-66页 |
| 4.2.1 载荷对晶体 Si3N4薄膜摩擦学特性的影响 | 第62-63页 |
| 4.2.2 滑动方向对晶体薄膜摩擦学特性的影响 | 第63-64页 |
| 4.2.3 滑动速度对晶体薄膜摩擦学特性的影响 | 第64-65页 |
| 4.2.4 厚度晶体 Si3N4薄膜的摩擦学特性 | 第65-66页 |
| 4.3 非晶态 SiNx薄膜摩擦学特性研究 | 第66-71页 |
| 4.3.1 载荷对非晶态 SiNx薄膜摩擦学特性的影响 | 第66-68页 |
| 4.3.2 原子配比对非晶态 SiNx薄膜摩擦学特性的影响 | 第68-69页 |
| 4.3.3 压头半径对非晶态 SiNx薄膜摩擦学特性的影响 | 第69-71页 |
| 4.4 本章小结 | 第71-72页 |
| 结论 | 第72-73页 |
| 参考文献 | 第73-78页 |
| 攻读硕士学位期间发表的学术论文 | 第78-80页 |
| 致谢 | 第80页 |
