| 致谢 | 第5-6页 |
| 摘要 | 第6-7页 |
| ABSTRACT | 第7页 |
| 1 绪论 | 第10-24页 |
| 1.1 引言 | 第10页 |
| 1.2 石墨烯概论 | 第10-18页 |
| 1.2.1 石墨烯的性能 | 第11-13页 |
| 1.2.2 石墨烯的制备 | 第13-15页 |
| 1.2.3 石墨烯的应用 | 第15-18页 |
| 1.3 激光与石墨烯作用概论 | 第18-20页 |
| 1.3.1 激光制备石墨烯 | 第18-19页 |
| 1.3.2 激光清洁与分解石墨烯 | 第19-20页 |
| 1.3.3 激光烧蚀石墨烯 | 第20页 |
| 1.3.4 激光减薄石墨烯 | 第20页 |
| 1.4 问题的提出与本文的内容 | 第20-24页 |
| 1.4.1 问题的提出 | 第20-21页 |
| 1.4.2 本文的主要内容 | 第21-24页 |
| 2 实验的试剂、设备及表征方法 | 第24-28页 |
| 2.1 实验试剂 | 第24页 |
| 2.2 实验设备 | 第24-25页 |
| 2.3 实验表征方法 | 第25-28页 |
| 2.3.1 光学显微镜 | 第25页 |
| 2.3.2 拉曼光谱仪 | 第25-27页 |
| 2.3.4 扫描电子显微镜 | 第27页 |
| 2.3.5 X射线光电子能谱仪 | 第27-28页 |
| 3 激光刻蚀石墨烯的研究 | 第28-48页 |
| 3.1 引言 | 第28页 |
| 3.2 激光刻蚀石墨烯的原理 | 第28-29页 |
| 3.3 532 nm纳秒激光刻蚀石墨烯的研究 | 第29-33页 |
| 3.3.1 实验部分 | 第29页 |
| 3.3.2 实验结果分析 | 第29-32页 |
| 3.3.3 实验的不足之处 | 第32-33页 |
| 3.4 1064 nm皮秒激光刻蚀石墨烯的研究 | 第33-44页 |
| 3.4.1 化学气相沉积法生长石墨烯 | 第33-36页 |
| 3.4.2 湿法刻蚀铜法转移石墨烯 | 第36-41页 |
| 3.4.3 1064 nm激光刻蚀石墨烯 | 第41-44页 |
| 3.5 两组实验的对比 | 第44-46页 |
| 3.6 本章小结 | 第46-48页 |
| 4 激光改性的石墨烯表面生长氧化铝 | 第48-62页 |
| 4.1 引言 | 第48页 |
| 4.2 原子层沉积技术简介 | 第48-50页 |
| 4.3 ALD工艺在激光辐照过的石墨烯表面制备氧化铝薄膜 | 第50-54页 |
| 4.3.1 实验部分 | 第50-51页 |
| 4.3.2 实验结果分析 | 第51-54页 |
| 4.4 激光辐照过的石墨烯生长氧化铝的机理 | 第54-59页 |
| 4.5 本章小结 | 第59-62页 |
| 5 结论 | 第62-64页 |
| 参考文献 | 第64-68页 |
| 作者简介及攻读硕士学位期间取得的研究成果 | 第68-72页 |
| 学位论文数据集 | 第72页 |