| 中文摘要 | 第4-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 第一章 绪论 | 第11-26页 |
| §1.1 前言 | 第11-12页 |
| §1.2 半导体光催化光解水制氢 | 第12-16页 |
| §1.2.1 半导体光催化光解水制氢的基本原理 | 第12-14页 |
| §1.2.2 催化剂能带结构的理论分析 | 第14-15页 |
| §1.2.3 催化剂的元素构成 | 第15-16页 |
| §1.3 助催化剂对光解水反应过程的影响 | 第16-20页 |
| §1.3.1 助催化剂对电子传导过程的影响 | 第16-17页 |
| §1.3.2 助催化剂对反应活化能的影响 | 第17-19页 |
| §1.3.3 助催化剂对水的氧化还原过程的影响 | 第19-20页 |
| §1.4 提高光解水催化剂催化活性的途径 | 第20-22页 |
| §1.5 光解水催化剂的研究进展 | 第22-25页 |
| §1.5.1 金属氧化物 | 第22-23页 |
| §1.5.2 金属硫化物 | 第23页 |
| §1.5.3 钽酸盐、铌酸盐和钛酸盐 | 第23-24页 |
| §1.5.4 固溶体 | 第24-25页 |
| §1.6 论文的选题及意义 | 第25-26页 |
| 第二章 (Ga1-xZnx)(N1-xOx)固溶体薄膜的制备及表征 | 第26-42页 |
| §2.1 引言 | 第26页 |
| §2.2 实验试剂和实验仪器 | 第26-27页 |
| §2.2.1 实验试剂 | 第26-27页 |
| §2.2.2 实验仪器 | 第27页 |
| §2.3 固溶体薄膜的制备 | 第27-29页 |
| §2.3.1 石英玻璃板的清洗 | 第27页 |
| §2.3.2 Ga(NO3)3·xH2O 和 Zn(NO3)2·6H2O 的 TG 分析 | 第27-28页 |
| §2.3.3 固溶体薄膜的制备 | 第28-29页 |
| §2.4 固溶体薄膜的表征 | 第29-38页 |
| §2.4.1 固溶体薄膜的 XRD 分析 | 第29-32页 |
| §2.4.2 固溶体薄膜的 UV-vis 吸收光谱分析 | 第32-34页 |
| §2.4.3 两种固溶体的 FESEM 和 BET 分析 | 第34-37页 |
| §2.4.4 固溶体薄膜的 EDS 分析 | 第37-38页 |
| §2.5 固溶体薄膜光解水活性测试 | 第38-40页 |
| §2.6 本章小结 | 第40-42页 |
| 第三章 Rh-Cr2O3核壳结构助催化剂/(Ga1-xZnx)(N1-xOx)固溶体薄膜的制备及其光解水活性测试 | 第42-52页 |
| §3.1 引言 | 第42页 |
| §3.2 实验试剂和实验仪器 | 第42-43页 |
| §3.2.1 实验试剂 | 第42-43页 |
| §3.2.2 实验仪器 | 第43页 |
| §3.3 Rh-Cr2O3核壳结构助催化剂的制备 | 第43-44页 |
| §3.4 Rh-Cr2O3核壳结构助催化剂的表征 | 第44-47页 |
| §3.4.1 Rh-Cr2O3核壳结构助催化剂的 XRD 分析 | 第44-46页 |
| §3.4.2 Rh-Cr2O3核壳结构助催化剂的 HRTEM 分析 | 第46-47页 |
| §3.4.3 Rh-Cr2O3核壳结构助催化剂的 EDS 分析 | 第47页 |
| §3.5 固溶体沉积助催化剂后的光解水活性测试 | 第47-50页 |
| §3.5.1 Rh 沉积量对固溶体光解水活性的影响 | 第47-48页 |
| §3.5.2 Cr2O3沉积量对固溶体光解水活性的影响 | 第48-49页 |
| §3.5.3 催化剂光解水稳定性的探究 | 第49-50页 |
| §3.6 本章小结 | 第50-52页 |
| 第四章 结论与展望 | 第52-55页 |
| §4.1 结论 | 第52-53页 |
| §4.2 展望 | 第53-55页 |
| 参考文献 | 第55-63页 |
| 致谢 | 第63页 |
