中文摘要 | 第4-6页 |
英文摘要 | 第6-7页 |
1 绪论 | 第11-16页 |
1.1 自旋电子学 | 第11页 |
1.2 自旋电子学材料的分类 | 第11页 |
1.3 未掺杂半导体的磁性 | 第11-14页 |
1.3.1 未掺杂HfO_2的铁磁性 | 第11-12页 |
1.3.2 未掺杂ZnO的铁磁性 | 第12页 |
1.3.3 未掺杂TiO_2的铁磁性 | 第12-13页 |
1.3.4 其它未掺杂氧化物的铁磁性 | 第13页 |
1.3.5 氮化物、硫化物和碳化物的磁特性 | 第13页 |
1.3.6 金属和非金属纳米颗粒的磁特性 | 第13-14页 |
1.3.7 未掺杂Ⅳ族半导体磁特性 | 第14页 |
1.4 本论文选题依据以及研究内容 | 第14-16页 |
2 实验设备与表征手段 | 第16-19页 |
2.1 样品的制备方法 | 第16-17页 |
2.1.1 射频溅射系统 | 第16页 |
2.1.2 Si片清洗 | 第16-17页 |
2.2 表征方法和基本原理 | 第17-19页 |
2.2.1 结构和成分的表征 | 第17页 |
2.2.2 形貌和磁畴的表征方法 | 第17-18页 |
2.2.3 电学性质的表征方法 | 第18页 |
2.2.4 磁特性的表征方法 | 第18页 |
2.2.5 光学性质的表征方法 | 第18-19页 |
3 Si基底Al_2O_(3_δ)薄膜的磁性研究 | 第19-29页 |
3.1 实验过程 | 第19页 |
3.2 后处理对样品性质的响 | 第19-27页 |
3.2.1 微结构分析 | 第19-21页 |
3.2.2 形貌分析 | 第21页 |
3.2.3 磁性分析 | 第21-23页 |
3.2.4 傅里叶红外光谱与电输运性质分析 | 第23-27页 |
3.3 薄膜厚度对样品性质的影响 | 第27页 |
3.3.1 磁性分析 | 第27页 |
3.3.2 电容-电压特性分析 | 第27页 |
3.4 本章小结 | 第27-29页 |
4 Si-Al_2O_(3-δ)复合薄膜的磁性研究 | 第29-39页 |
4.1 实验过程 | 第29页 |
4.2 Si含量对样品性质的影响 | 第29-33页 |
4.2.1 微结构分析 | 第29页 |
4.2.2 形貌和磁畴分析 | 第29-30页 |
4.2.3 磁性分析 | 第30-31页 |
4.2.4 荧光光谱分析 | 第31-33页 |
4.3 后处理对样品性质的影响 | 第33-37页 |
4.3.1 磁性分析 | 第33-35页 |
4.3.2 傅里叶红外光谱分析 | 第35页 |
4.3.3 电输运性质分析 | 第35-36页 |
4.3.4 荧光光谱分析 | 第36-37页 |
4.3.5 紫外可见光谱分析 | 第37页 |
4.4 本章小结 | 第37-39页 |
5 C-Al_2O_(3_δ)复合薄膜的磁性研究 | 第39-48页 |
5.1 实验过程 | 第39页 |
5.2 C含量对样品性质的影响 | 第39-42页 |
5.2.1 微结构分析 | 第40页 |
5.2.2 形貌分析 | 第40页 |
5.2.3 磁性分析 | 第40-41页 |
5.2.4 荧光光谱分析 | 第41页 |
5.2.5 电输运性质分析 | 第41-42页 |
5.3 后处理对样品性质的影响 | 第42-47页 |
5.3.1 微结构分析 | 第42-43页 |
5.3.2 磁性分析 | 第43-45页 |
5.3.3 傅里叶红外光谱分析 | 第45-46页 |
5.3.4 荧光光谱分析 | 第46页 |
5.3.5 紫外可见光谱分析 | 第46-47页 |
5.4 本章小结 | 第47-48页 |
6 Cu-Al_2O_(3-δ)复合薄膜的磁性研究 | 第48-53页 |
6.1 实验过程 | 第48页 |
6.2 Cu含量对样品性质的影响 | 第48-49页 |
6.2.1 微结构分析 | 第48-49页 |
6.2.2 磁性分析 | 第49页 |
6.3 后处理对样品性质的影响 | 第49-52页 |
6.3.1 微结构分析 | 第49-50页 |
6.3.2 磁性分析 | 第50-51页 |
6.3.3 电输运性质分析 | 第51页 |
6.3.4 紫外可见光谱分析 | 第51-52页 |
6.4 本章小结 | 第52-53页 |
结论 | 第53-54页 |
参考文献 | 第54-59页 |
致谢 | 第59-60页 |
攻读学位期间取得的科研成果清单 | 第60页 |