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氧化铝薄膜的制备与磁有序研究

中文摘要第4-6页
英文摘要第6-7页
1 绪论第11-16页
    1.1 自旋电子学第11页
    1.2 自旋电子学材料的分类第11页
    1.3 未掺杂半导体的磁性第11-14页
        1.3.1 未掺杂HfO_2的铁磁性第11-12页
        1.3.2 未掺杂ZnO的铁磁性第12页
        1.3.3 未掺杂TiO_2的铁磁性第12-13页
        1.3.4 其它未掺杂氧化物的铁磁性第13页
        1.3.5 氮化物、硫化物和碳化物的磁特性第13页
        1.3.6 金属和非金属纳米颗粒的磁特性第13-14页
        1.3.7 未掺杂Ⅳ族半导体磁特性第14页
    1.4 本论文选题依据以及研究内容第14-16页
2 实验设备与表征手段第16-19页
    2.1 样品的制备方法第16-17页
        2.1.1 射频溅射系统第16页
        2.1.2 Si片清洗第16-17页
    2.2 表征方法和基本原理第17-19页
        2.2.1 结构和成分的表征第17页
        2.2.2 形貌和磁畴的表征方法第17-18页
        2.2.3 电学性质的表征方法第18页
        2.2.4 磁特性的表征方法第18页
        2.2.5 光学性质的表征方法第18-19页
3 Si基底Al_2O_(3_δ)薄膜的磁性研究第19-29页
    3.1 实验过程第19页
    3.2 后处理对样品性质的响第19-27页
        3.2.1 微结构分析第19-21页
        3.2.2 形貌分析第21页
        3.2.3 磁性分析第21-23页
        3.2.4 傅里叶红外光谱与电输运性质分析第23-27页
    3.3 薄膜厚度对样品性质的影响第27页
        3.3.1 磁性分析第27页
        3.3.2 电容-电压特性分析第27页
    3.4 本章小结第27-29页
4 Si-Al_2O_(3-δ)复合薄膜的磁性研究第29-39页
    4.1 实验过程第29页
    4.2 Si含量对样品性质的影响第29-33页
        4.2.1 微结构分析第29页
        4.2.2 形貌和磁畴分析第29-30页
        4.2.3 磁性分析第30-31页
        4.2.4 荧光光谱分析第31-33页
    4.3 后处理对样品性质的影响第33-37页
        4.3.1 磁性分析第33-35页
        4.3.2 傅里叶红外光谱分析第35页
        4.3.3 电输运性质分析第35-36页
        4.3.4 荧光光谱分析第36-37页
        4.3.5 紫外可见光谱分析第37页
    4.4 本章小结第37-39页
5 C-Al_2O_(3_δ)复合薄膜的磁性研究第39-48页
    5.1 实验过程第39页
    5.2 C含量对样品性质的影响第39-42页
        5.2.1 微结构分析第40页
        5.2.2 形貌分析第40页
        5.2.3 磁性分析第40-41页
        5.2.4 荧光光谱分析第41页
        5.2.5 电输运性质分析第41-42页
    5.3 后处理对样品性质的影响第42-47页
        5.3.1 微结构分析第42-43页
        5.3.2 磁性分析第43-45页
        5.3.3 傅里叶红外光谱分析第45-46页
        5.3.4 荧光光谱分析第46页
        5.3.5 紫外可见光谱分析第46-47页
    5.4 本章小结第47-48页
6 Cu-Al_2O_(3-δ)复合薄膜的磁性研究第48-53页
    6.1 实验过程第48页
    6.2 Cu含量对样品性质的影响第48-49页
        6.2.1 微结构分析第48-49页
        6.2.2 磁性分析第49页
    6.3 后处理对样品性质的影响第49-52页
        6.3.1 微结构分析第49-50页
        6.3.2 磁性分析第50-51页
        6.3.3 电输运性质分析第51页
        6.3.4 紫外可见光谱分析第51-52页
    6.4 本章小结第52-53页
结论第53-54页
参考文献第54-59页
致谢第59-60页
攻读学位期间取得的科研成果清单第60页

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